[发明专利]制备半导体光检测装置的方法

摘要

本发明提供了一种半导体光检测装置制备技术，其中，在单一的、自对准光刻模块中进行顶部蚀刻和防反射涂层步骤。

主权项

一种制备半导体光检测装置的方法，包括以下步骤：提供包含其上具有生长的半导体光检测装置外延的衬底的晶圆，其中，在所述外延中的所述上部区域是顶部区域；然后使用光刻技术用顶部蚀刻图案中的顶部蚀刻光刻胶使所述晶圆图案化，所述顶部蚀刻图案限定触点区域；然后根据所述顶部蚀刻图案蚀刻掉暴露区域中的顶部区域；然后在不去除所述顶部蚀刻光刻胶的情况下在所述晶圆上施加防反射涂层；且然后使用剥离过程去除顶部蚀刻光刻胶，以暴露触点区域，并且仅剥离在所述触点区域上的防反射涂层，以便对准顶部区域和防反射涂层的图案。