[发明专利]一种用于非晶硅沉积的控制系统有效
| 申请号： | 201210398114.7 | 申请日： | 2012-10-19 |
| 公开（公告）号： | CN103774121A | 公开（公告）日： | 2014-05-07 |
| 发明（设计）人： | 陈五奎;雷晓全;任陈平;王斌 | 申请（专利权）人： | 陕西拓日新能源科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/52 | 分类号： | C23C16/52;C23C16/24 |
| 代理公司： | 北京汉昊知识产权代理事务所(普通合伙) 11370 | 代理人： | 孟海娟 |
| 地址： | 715200 陕西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种用于非晶硅沉积的控制系统，包括处理器，以及分别与处理器连接的真空传感器、氩气阀、氮气阀、起辉电源和用于抽真空的泵。本发明的有益效果是：使用真空传感器测量真空的压力变化数据，将数据发送至PLC进行数据处理，进一步调节自动阀门开度，配合控制阀来自动控制室内压力。质量流量控制器，测量气体的流量变化数据发送PLC进行气体流量数据处理。本发明能满足工艺对流量的精确控制要求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 非晶硅 沉积 控制系统 | ||
【主权项】：
一种用于非晶硅沉积的控制系统，其特征是：包括处理器，以及分别与处理器连接的真空传感器、氩气阀、氮气阀、起辉电源和用于抽真空的泵。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于陕西拓日新能源科技有限公司，未经陕西拓日新能源科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201210398114.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
