[发明专利]一种用于非晶硅沉积的控制系统

权利要求书

1.一种用于非晶硅沉积的控制系统，其特征是：包括处理器，以及分别与处理器连接的真空传感器、氩气阀、氮气阀、起辉电源和用于抽真空的泵。

2.根据权利要求1所述的一种用于非晶硅沉积的控制系统，其特征是：所述处理器和氩气阀之间还设置有质量流程控制器，所述处理器和氮气阀之间还设置有质量流程控制器。

3.根据权利要求1所述的一种用于非晶硅沉积的控制系统，其特征是：所述的泵是罗茨泵。

4.根据权利要求1所述的一种用于非晶硅沉积的控制系统，其特征是：所述的泵包括相互独立的机械泵和罗茨泵。

5.根据权利要求1所述的一种用于非晶硅沉积的控制系统，其特征是：所述的起辉电源是AE电源。

6.根据权利要求1-5任一项所述的一种用于非晶硅沉积的控制系统，其特征是：所述的处理器是PLC。