[发明专利]半导体装置有效
申请号: | 201210365308.7 | 申请日: | 2012-09-27 |
公开(公告)号: | CN103077945A | 公开(公告)日: | 2013-05-01 |
发明(设计)人: | 大竹诚治;武田安弘;宫本优太 | 申请(专利权)人: | 半导体元件工业有限责任公司 |
主分类号: | H01L27/06 | 分类号: | H01L27/06;H01L27/02;H01L29/73 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 胡金珑 |
地址: | 美国亚*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明提供半导体装置。实现确保期望的击穿电压且流过大的放电电流的ESD保护特性良好的ESD保护元件。由适合的杂质浓度的N+型嵌入层(2)和P+型嵌入层(3)形成的PN结二极管、将与P+型扩散层(6)连接的P+型嵌入层(3b)为发射极且将N-型外延层(4)为基极且将P+型嵌入层(3)为集电极的寄生PNP双极型晶体管构筑ESD保护元件。P+型嵌入层(3)与阳极电极连接,P+型扩散层和围绕它的N+型扩散层(7)与阴极电极连接。如果阴极电极被施加正的大静电,则PN结二极管击穿,通过其放电电流(I1)导致N-型外延层的电位低于P+型嵌入层(3),寄生PNP双极型晶体管导通,流过大的放电电流(I2)。 | ||
搜索关键词: | 半导体 装置 | ||
【主权项】:
一种半导体装置,其特征在于,包括:第2导电型的外延层,在第1导电型的半导体衬底上堆积;第2导电型的第1嵌入层,在与所述半导体衬底和所述外延层之间形成;第1导电型的第2嵌入层,与所述第1嵌入层的周边区域连接且从所述半导体衬底内向所述外延层内延伸;第1导电型的第3嵌入层,与所述第1嵌入层的中心区域连接,并且跨越所述第1嵌入层从所述半导体衬底内向所述外延层内延伸;第1导电型的第1引出层以及第2引出层,从所述外延层的表面向所述外延层内延伸并且分别与所述第2嵌入层以及所述第3嵌入层成为一体;第1导电型的第1扩散层,从由所述第2嵌入层、所述第1引出层和所述第1嵌入层包围的所述外延层的表面向其内部延伸,并且与所述第2引出层连接;第2导电型的第2扩散层,与所述第1扩散层连接并且围绕该第1扩散层而形成;以及与所述第1扩散层以及所述第2扩散层连接的阴极电极和与所述第1引出层连接的阳极电极,所述半导体装置具有:ESD保护元件,通过由所述第1嵌入层和所述第2嵌入层形成的PN结二极管、由所述第3嵌入层和所述外延层和所述第2嵌入层形成的寄生双极型晶体管所构成。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的