[发明专利]半导体装置有效

专利信息
申请号: 201210365308.7 申请日: 2012-09-27
公开(公告)号: CN103077945A 公开(公告)日: 2013-05-01
发明(设计)人: 大竹诚治;武田安弘;宫本优太 申请(专利权)人: 半导体元件工业有限责任公司
主分类号: H01L27/06 分类号: H01L27/06;H01L27/02;H01L29/73
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 胡金珑
地址: 美国亚*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明提供半导体装置。实现确保期望的击穿电压且流过大的放电电流的ESD保护特性良好的ESD保护元件。由适合的杂质浓度的N+型嵌入层(2)和P+型嵌入层(3)形成的PN结二极管、将与P+型扩散层(6)连接的P+型嵌入层(3b)为发射极且将N-型外延层(4)为基极且将P+型嵌入层(3)为集电极的寄生PNP双极型晶体管构筑ESD保护元件。P+型嵌入层(3)与阳极电极连接,P+型扩散层和围绕它的N+型扩散层(7)与阴极电极连接。如果阴极电极被施加正的大静电,则PN结二极管击穿,通过其放电电流(I1)导致N-型外延层的电位低于P+型嵌入层(3),寄生PNP双极型晶体管导通,流过大的放电电流(I2)。
搜索关键词: 半导体 装置
【主权项】:
一种半导体装置,其特征在于,包括:第2导电型的外延层,在第1导电型的半导体衬底上堆积;第2导电型的第1嵌入层,在与所述半导体衬底和所述外延层之间形成;第1导电型的第2嵌入层,与所述第1嵌入层的周边区域连接且从所述半导体衬底内向所述外延层内延伸;第1导电型的第3嵌入层,与所述第1嵌入层的中心区域连接,并且跨越所述第1嵌入层从所述半导体衬底内向所述外延层内延伸;第1导电型的第1引出层以及第2引出层,从所述外延层的表面向所述外延层内延伸并且分别与所述第2嵌入层以及所述第3嵌入层成为一体;第1导电型的第1扩散层,从由所述第2嵌入层、所述第1引出层和所述第1嵌入层包围的所述外延层的表面向其内部延伸,并且与所述第2引出层连接;第2导电型的第2扩散层,与所述第1扩散层连接并且围绕该第1扩散层而形成;以及与所述第1扩散层以及所述第2扩散层连接的阴极电极和与所述第1引出层连接的阳极电极,所述半导体装置具有:ESD保护元件,通过由所述第1嵌入层和所述第2嵌入层形成的PN结二极管、由所述第3嵌入层和所述外延层和所述第2嵌入层形成的寄生双极型晶体管所构成。
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