[发明专利]基板处理装置有效
| 申请号: | 201210101409.3 | 申请日: | 2012-03-31 |
| 公开(公告)号: | CN102738048A | 公开(公告)日: | 2012-10-17 |
| 发明(设计)人: | 菅原荣一 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号: | H01L21/677 | 分类号: | H01L21/677;H01L21/67 |
| 代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | 本发明提供基板处理装置,其能够使由于进行设置于真空处理室中的基板载置台的表面部的状态确认、该表面部的更换所导致的真空处理的停止时间变短,并且能够高精度地管理上述表面部的状态。该基板处理装置包括:搬送基板的常压气氛的常压搬送室;与该常压搬送室经由负载锁定室连接的真空处理室;设置于上述真空处理室,具有主体部和相对于该主体部自由装卸的表面部的基板载置台;设置于上述负载锁定室或常压搬送室,用于收纳上述表面部的保管部;和从常压搬送室经由负载锁定室向真空处理室搬送基板,且在上述保管部与上述真空处理室的主体部之间搬送上述表面部的搬送机构。 | ||
| 搜索关键词: | 处理 装置 | ||
【主权项】:
一种基板处理装置,其特征在于,包括:搬送基板的常压气氛的常压搬送室;经由负载锁定室与该常压搬送室连接,对基板进行真空处理的真空处理室;设置于所述真空处理室,具有主体部和相对于该主体部自由装卸的表面部的基板载置台;设置于所述负载锁定室或常压搬送室,用于收纳所述表面部的保管部;和从常压搬送室经由负载锁定室向真空处理室搬送基板,此外在所述保管部与所述真空处理室的主体部之间搬送所述表面部的搬送机构。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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