[发明专利]基板处理装置

权利要求书

1.一种基板处理装置，其特征在于，包括：

搬送基板的常压气氛的常压搬送室；

经由负载锁定室与该常压搬送室连接，对基板进行真空处理的真空处理室；

设置于所述真空处理室，具有主体部和相对于该主体部自由装卸的表面部的基板载置台；

设置于所述负载锁定室或常压搬送室，用于收纳所述表面部的保管部；和

从常压搬送室经由负载锁定室向真空处理室搬送基板，此外在所述保管部与所述真空处理室的主体部之间搬送所述表面部的搬送机构。

2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于：

设置有位于所述负载锁定室与所述真空处理室之间的真空气氛的真空搬送室。

3.如权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于：

所述保管部，代替设置于所述负载锁定室或常压搬送室，而与所述负载锁定室和真空处理室划分开，与所述真空搬送室连接，

具有切换该保管部相对于真空搬送室的开放和隔断的分隔阀，使得能够在所述真空搬送室处于真空气氛的状态下，将所述保管部的内部从真空气氛变为常压气氛。

4.如权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于：

所述保管部包括相互划分开的第一保管部和第二保管部，

所述分隔阀分别设置于第一保管部、第二保管部，能够相互独立地开闭。

5.如权利要求1～4中任一项所述的基板处理装置，其特征在于：

所述表面部具有载置基板的载置面，

所述保管部具有用于保持所述表面部的保持部，

所述搬送机构在基板被载置于所述表面部的状态下将该基板从保管部搬送至真空处理室。

6.如权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于：

设置有定位机构，在将表面部和基板搬送至所述保持部之前，进行相对于该保持部的定位，使得将基板载置在所述载置面的预先设定的位置。

7.如权利要求1～4中任一项所述的基板处理装置，其特征在于：

所述真空处理室用于对基板进行等离子体处理。

8.如权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于：

所述表面部具有用于吸附基板的静电吸盘和包围基板的外周、用于控制等离子体的状态的聚焦环中的至少任一种。