[发明专利]一种薄膜晶体管阵列基板及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201210043853.4 申请日: 2012-02-23
公开(公告)号: CN102629590A 公开(公告)日: 2012-08-08
发明(设计)人: 宁策;吕志军 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L21/77 分类号: H01L21/77;H01L27/12;G02F1/1368
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 郭润湘
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种薄膜晶体管阵列基板及其制作方法,其制作方法包括:在基板上制备有源层薄膜和导电层薄膜;在导电层薄膜上沉积源漏极层薄膜,对导电层薄膜和源漏极层薄膜采用灰色调或半色调掩膜工艺进行处理,得到至少两条数据线、像素电极、TFT的源漏电极和沟道;阵列基板上一列TFT的源极与一条数据线连接;沉积覆盖有源层薄膜、源漏电极、数据线、像素电极的绝缘层薄膜后,在绝缘层上制备过孔、TFT的绝缘层,并得到TFT的有源层;在绝缘层上制备TFT的栅电极和与数据线交叉的至少两条栅极扫描线,阵列基板上一行TFT的栅电极与一条栅极扫描线连接。该方法降低了产品成本,提高了良品率和设备产能。
搜索关键词: 一种 薄膜晶体管 阵列 及其 制作方法
【主权项】:
一种薄膜晶体管阵列基板的制作方法,其特征在于,包括:在基板上制备有源层薄膜和导电层薄膜;在所述导电层薄膜上沉积源漏极层薄膜,对所述导电层薄膜和所述源漏极层薄膜采用灰色调或半色调掩膜工艺进行处理,得到至少两条数据线、像素电极、薄膜晶体管TFT的源漏电极和沟道;所述阵列基板上一列TFT的源极与一条所述数据线连接;沉积覆盖所述有源层薄膜、源漏电极、数据线、像素电极的绝缘层薄膜后,在所述绝缘层薄膜上制备过孔、TFT的绝缘层,并得到TFT的有源层;每条所述数据线对应的区域内的选定位置处设置有所述过孔;在所述绝缘层上制备TFT的栅电极和与所述数据线交叉的至少两条栅极扫描线,所述阵列基板上一行TFT的栅电极与一条所述栅极扫描线连接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210043853.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top