[发明专利]一种ZrC-SiC复相陶瓷材料的制备方法无效
申请号: | 201210005002.0 | 申请日: | 2012-01-09 |
公开(公告)号: | CN103193484A | 公开(公告)日: | 2013-07-10 |
发明(设计)人: | 李庆刚;董绍明;王震;周海军;何平;胡建宝;丁玉生;张翔宇 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海硅酸盐研究所 |
主分类号: | C04B35/56 | 分类号: | C04B35/56;C04B35/622 |
代理公司: | 上海海颂知识产权代理事务所(普通合伙) 31258 | 代理人: | 何葆芳 |
地址: | 200050 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种ZrC-SiC复相陶瓷材料的制备方法,所述方法是一种原位反应法,即,首先将酚醛树脂、锆粉、硅粉加入有机溶剂中,球磨使混合均匀;然后干燥除去有机溶剂,制得先驱体粉末;再将先驱体粉末在800~1000℃进行裂解处理;裂解处理后,再在惰性气氛下,于1500~1800℃进行热处理。本发明提供的ZrC-SiC复相陶瓷材料的制备方法,具有操作简单,成本低,可规模化实施及可任意调节其中两相比例等优点,有助于实现ZrC-SiC复相陶瓷材料在超高温领域的广泛应用。 | ||
搜索关键词: | 一种 zrc sic 陶瓷材料 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种ZrC‑SiC复相陶瓷材料的制备方法,其特征在于:是一种原位反应法,即,首先将酚醛树脂、锆粉、硅粉加入有机溶剂中,球磨使混合均匀;然后干燥除去有机溶剂,制得先驱体粉末;再将先驱体粉末在800~1000℃进行裂解处理;裂解处理后,再在惰性气氛下,于1500~1800℃进行热处理。
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