[发明专利]二氧化硅去除溶液及其制备方法和应用有效
| 申请号： | 201110460354.0 | 申请日： | 2011-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN103184113A | 公开（公告）日： | 2013-07-03 |
| 发明（设计）人： | 金波;董志刚 | 申请（专利权）人： | 北大方正集团有限公司;深圳方正微电子有限公司 |
| 主分类号： | C11D7/26 | 分类号： | C11D7/26;H01L21/02 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 郭红丽 |
| 地址： | 100871 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种二氧化硅去除溶液及其制备方法和应用。所述二氧化硅去除溶液以质量百分比计含有24.0％～40.0％醋酸、3.4％～7.3％氢氟酸、16.0％～27.0％氟化铵，余量为水。本发明的二氧化硅去除溶液具有良好的选择性，即能够完全去除铝层表面的二氧化硅层以及铝层之间的二氧化硅层，而对铝层基本无腐蚀，所以能够最大程度地保持原有铝层的形貌。并且，利用本发明的二氧化硅去除溶液去除二氧化硅层时，操作简单且工艺成本低。 | ||
| 搜索关键词： | 二氧化硅 去除 溶液 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
一种二氧化硅去除溶液，其特征在于，以质量百分比计，含有24.0％～40.0％醋酸、3.4％～7.3％氢氟酸、16.0％～27.0％氟化铵，余量为水。
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