[发明专利]一种纳米级PSS衬底制作方法有效

专利信息
申请号: 201110330648.1 申请日: 2011-10-27
公开(公告)号: CN102447024A 公开(公告)日: 2012-05-09
发明(设计)人: 周武;罗红波;张建宝;刘榕 申请(专利权)人: 华灿光电股份有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00
代理公司: 江西省专利事务所 36100 代理人: 胡里程
地址: 430223 湖北省*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开一种纳米级PSS衬底制作方法,在蓝宝石衬底上沉积一层SiO2膜,在SiO2膜沉积一层金属Al,用一种弱碱性的化学溶液,在SiO2膜表面上生成均匀的铝氧化物纳米颗粒,用干法刻蚀去掉未被铝氧化物挡住的SiO2膜,这样将均匀的铝氧化物纳米颗粒图形转移到SiO2膜层,然后放入高温的硫酸与磷酸混合溶液中腐蚀,再一次将均匀纳米状的SiO2颗粒图形转移到蓝宝石衬底上,最后用HF酸去掉SiO2膜,从而形成纳米级PSS衬底。此发明可以改善LED芯片外量子效应,制作成本低,生产高效率。
搜索关键词: 一种 纳米 pss 衬底 制作方法
【主权项】:
一种纳米级PSS衬底制作方法,制备步骤如下:    (a) 蓝宝石衬底上沉积一层SiO2膜;(b) 在SiO2膜上蒸发一层金属铝;(c) 将步骤b蒸发一层金属铝的衬底浸泡在弱碱性的化学溶液中,进行化学作用,SiO2膜表面上留下均匀的铝氧化物纳米颗粒;(d)在c步骤化学作用后,再干法刻蚀掉未能被铝氧化物纳米颗粒挡住的SiO2膜, 将铝氧化物颗粒图形转移到SiO2膜层,形成纳米状的SiO2颗粒;(e)在d步骤后再放入高温的硫酸与磷酸混合溶液中腐蚀掉未被SiO2颗粒挡住的蓝宝衬底;(f)在e步骤后用HF酸去掉SiO2掩膜,形成纳米级PSS衬底。
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