[发明专利]半导体装置无效

专利信息
申请号: 201110305422.6 申请日: 2011-09-30
公开(公告)号: CN102446938A 公开(公告)日: 2012-05-09
发明(设计)人: 葛西大树;新井康夫;初井宇记 申请(专利权)人: OKI半导体株式会社;独立行政法人理化学研究所
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;H04N5/32
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 李伟;王轶
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种能够使反向耐压升高的半导体装置。包括:一导电型的半导体层(100);绝缘体层(130);设置在绝缘体层中的半导体层(210);设置于半导体层(210)的有源元件(20);设置于半导体层(100)的一主面(201)的另一导电型半导体区域(112);另一导电型半导体区域(114),设置在半导体区域(112)内,杂质浓度比半导体区域(112)高;导电体(154),设置于在绝缘体层(130)中设置的通孔(144)内,与半导体区域(144)连接;导电体(214),设置在绝缘体层(130)上或其中,且是设置在导电体(154)周围,外侧端部位于半导体区域(114)外侧;导电体(192),设置成连接导电体(154)和导电体(214);和导电体(152、120),设置成与半导体层(100)连接。
搜索关键词: 半导体 装置
【主权项】:
一种半导体装置,其特征在于,包括:一导电型的第1半导体层;绝缘体层,设置在所述第1半导体层的一主面上;第2半导体层,设置在所述绝缘体层中;有源元件,设置于所述第2半导体层;第1半导体区域,设置于所述第1半导体层的所述一主面,且该第1半导体区域的导电型是与所述一导电型相反的另一导电型;第2半导体区域,设置在所述第1半导体区域内,且该第2半导体区域的导电型是所述另一导电型,该第2半导体区域的杂质浓度比所述第1半导体区域高;第1导电体,设置于在所述绝缘体层中设置的通孔内,与所述第2半导体区域连接;第2导电体,设置在所述绝缘体层上或者所述绝缘体层中,并且是设置在所述第1导电体的周围,从垂直于所述一主面的方向观察时,该第2导电体的外侧端部位于所述第2半导体区域的外侧;第3导电体,设置为将所述第1导电体和所述第2导电体连接起来;和第4导电体,设置为与所述第1半导体层电连接。
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