[发明专利]三维存储器阵列有效

专利信息
申请号: 201110204733.3 申请日: 2011-07-13
公开(公告)号: CN102881317A 公开(公告)日: 2013-01-16
发明(设计)人: 张文岳 申请(专利权)人: 华邦电子股份有限公司
主分类号: G11C5/02 分类号: G11C5/02;H01L27/10
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人: 赵根喜;冯志云
地址: 中国台湾台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种三维存储器阵列。各字元线层具有沿第一方向交替排列的多条字元线及多个间隙,间隙包括交替排列的第一群间隙与第二群间隙。第一位元线层在字元线层上且具有沿第二方向的多条位元线。第一导电柱阵列穿过字元线层并连接第一位元线层,其包括在第一群间隙中的多个第一导电柱。各第一导电柱与邻接的字元线间配置有第一存储器构件。第二位元线层在字元线层下且具有沿第二方向的多条第二位元线。第二导电柱阵列穿过字元线层并连接第二位元线层,其包括在第二群间隙中的多个第二导电柱。各第二导电柱与邻接的字元线间配置有第二存储器构件。本发明的三维存储器阵列的下层的存储器层的可靠度及效能不会下降。
搜索关键词: 三维 存储器 阵列
【主权项】:
一种三维存储器阵列,包括:多个字元线层,每一个字元线层具有沿一第一方向交替排列的多条字元线及多个间隙,所述多个间隙包括交替排列的一第一群间隙与一第二群间隙;一第一位元线层,配置在所述多个字元线层的上方且具有沿一第二方向排列的多条位元线,该第二方向与该第一方向垂直;一第一导电柱阵列,延伸穿过所述多个字元线层并与该第一位元线层电性连接,该第一导电柱阵列包括多个第一导电柱,所述多个第一导电柱配置在该第一群间隙中,且每一个第一导电柱与一字元线层中与该第一导电柱邻接的一字元线之间配置有一第一存储器构件;一第二位元线层,配置在所述多个字元线层的下方且具有沿该第二方向排列的多条第二位元线;以及一第二导电柱阵列,延伸穿过所述多个字元线层并与该第二位元线层电性连接,该第二导电柱阵列包括多个第二导电柱,所述多个第二导电柱配置在该第二群间隙中,且每一个第二导电柱与一字元线层中与该第二导电柱邻接的一字元线之间配置有一第二存储器构件。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华邦电子股份有限公司,未经华邦电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110204733.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top