[发明专利]用于对晶片形物体进行液体处理的装置及工艺

摘要

用于单晶片湿法处理的器械中的旋转夹盘在其周向具有这样的结构：与所支撑的晶片相结合，形成一系列环形喷嘴，所述环形喷嘴引导来自晶片的夹盘面对表面的流动气体，围绕晶片的边缘，并且将气体从晶片的非夹盘面对表面排出，从而防止施加到非夹盘面对表面的处理流体接触到晶片的边缘区域。带有扩大头部的夹持销接合晶片边缘并且当使用高流率气体时防止晶片向上移位。

主权项

一种用于处理衬底表面的装置，包括：保持器，其适于将衬底定位在预定的方向；所述保持器的第一上周向表面适于与位于所述保持器上方的衬底限定第一喷嘴；所述保持器的第二上周向表面从所述第一上周向表面向外定位并且适于与位于所述保持器上方的衬底限定第二喷嘴；其中，所述第一和第二上周向表面由形成在它们之间的凹槽分隔开；气体供给，其被构造为提供横过所述第一和第二上周向表面指向外的气流；并且所述保持器的面向内的周向表面自所述第一和第二上周向表面向外定位并且面对位于所述保持器上的衬底的周缘，所述面向内的周向表面被构造为向上引导离开所述第二喷嘴的气流。