[发明专利]氧化物及磁光学设备有效
| 申请号： | 201080034297.3 | 申请日： | 2010-06-04 |
| 公开（公告）号： | CN102803582A | 公开（公告）日： | 2012-11-28 |
| 发明（设计）人： | 牧川新二;渡边聪明;山中明生;成濑宽峰 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | C30B29/16 | 分类号： | C30B29/16;C04B35/50;G02B27/28;G02F1/09;C01F17/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 蒋亭 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供一种含有氧化铽的氧化物，其在波长1.06μm区域(0.9～1.1μm)中的维尔德常数大，并且具有高透明性。本发明的进一步的目的在于，提供一种适用于加工机用光纤激光器中的小型化了的磁光学设备。本发明的氧化物含有下述式(I)所示的氧化物作为主成分，波长1.06μm下的维尔德常数为0.18min/(Oe·cm)以上，并且波长1.06μm、光路长度3mm时的透过率为70％以上。(TbxR1-x)2O3(I)(式(I)中，x为0.4≤x≤1.0，R包含选自钪、钇、镧、铕、钆、镱、钬、以及镥中的至少一种元素)。 | ||
| 搜索关键词： | 氧化物 光学 设备 | ||
【主权项】：
一种氧化物，其特征在于，含有下述式(I)所示的氧化物作为主成分，(TbxR1‑x)2O3 (I)式(I)中，x为0.4≤x≤1.0，R包含选自钪、钇、镧、铕、钆、镱、钬、以及镥中的至少一种元素，波长1.06μm下的维尔德常数为0.18min/(Oe·cm)以上，并且波长1.06μm、光路长度3mm时的透过率70％以上。
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