[发明专利]氧化物及磁光学设备

权利要求书

1.一种氧化物，其特征在于，含有下述式(I)所示的氧化物作为主成分，

(Tb_xR_1-x)₂O₃    (I)

式(I)中，x为0.4≤x≤1.0，R包含选自钪、钇、镧、铕、钆、镱、钬、以及镥中的至少一种元素，

波长1.06μm下的维尔德常数为0.18min/(Oe·cm)以上，并且波长1.06μm、光路长度3mm时的透过率70％以上。

2.根据权利要求1中所述的氧化物，其中，在所述式(I)中，R选自由钪、钇、镧、铕、钆、镱、钬、以及镥形成的组。

3.根据权利要求1或2中所述的氧化物，其中，含有0.00001重量％以上0.1重量％以下的选自由碱土金属的氧化物、第13族元素的氧化物、第14族元素的氧化物、以及第4族元素的氧化物形成的组的金属氧化物。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的氧化物，其为单晶。

5.根据权利要求4中所述的氧化物，其中，含有0.0001重量％以上0.1重量％以下的碱土金属的氧化物。

6.根据权利要求4或5中所述的氧化物，其为利用选自浮动区域熔炼法、微下拉法、提拉法、壳熔法、以及布里奇曼晶体生长法中的制造方法制作而成。

7.根据权利要求1～3中任一项所述的氧化物，其为陶瓷。

8.一种磁光学设备，其特征在于，使用权利要求1～7中任一项所述的氧化物构成。

9.根据权利要求8中所述的磁光学设备，其具备权利要求1～7中任一项所述的氧化物作为法拉第旋转器，并且具备配置于该法拉第旋转器的前后的偏光材料，所述磁光学设备是波长0.9μm以上1.1μm以下的光隔离器。