[实用新型]一种金属有机物化学气相沉积设备的水冷夹层无效
申请号: | 201020284762.6 | 申请日: | 2010-08-09 |
公开(公告)号: | CN201834966U | 公开(公告)日: | 2011-05-18 |
发明(设计)人: | 李刚;李可 | 申请(专利权)人: | 上海蓝宝光电材料有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 201616*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型为金属有机物化学气相沉积设备中在高温及真空状态下分隔Ⅲ族和Ⅴ族气体所用的水冷夹层。在本实用新型中采用了一种加工制造相对简单的方法实现了上述功能。其结构特点是,所述水冷夹层由上隔板(1)、下隔板(2)、内环(3)、外环(4)构成主体。水冷管(5)、进水水管(6)、出水水管(7)、中间水道隔板(9)、边缘水道隔板(10)构成水冷结构。O型圈(8)密封周边。通过此结构实现了在高温及真空状态下上层反应气体均匀通过夹层,且夹层本身满足密封及水冷的要求。 | ||
搜索关键词: | 一种 金属 有机物 化学 沉积 设备 水冷 夹层 | ||
【主权项】:
一种金属有机物化学气相沉积设备中在高温及真空状态下分隔Ⅲ族和Ⅴ族气体所用的水冷夹层,其特征在于由上下隔板构成的夹层结构,水冷管布置在夹层中间。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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