[实用新型]用于半导体二极管的酸洗槽无效

专利信息
申请号: 201020142521.8 申请日: 2010-03-26
公开(公告)号: CN201655760U 公开(公告)日: 2010-11-24
发明(设计)人: 张心波 申请(专利权)人: 张心波
主分类号: H01L21/00 分类号: H01L21/00;H01L21/329;B08B3/08
代理公司: 常州市维益专利事务所 32211 代理人: 贾海芬
地址: 213017 江苏省常州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型涉及一种用于半导体二极管的酸洗槽,包括酸洗盘和四个以上耐腐蚀的支腿,酸洗盘的凹槽底板上设具有三排以上横向和纵向设置的工件插装孔,所述酸洗盘的四周具有安装孔,支腿上部具有小于支腿尺寸的安装轴,且支腿的安装轴与酸洗盘的工件插装孔紧密配合。本实用新型直接将安装轴紧配安装在酸洗盘的安装孔内,由于没有螺钉,酸洗过程中,酸洗槽的酸洗液流入支腿顶部后,支腿不会被酸洗液腐蚀,结构简单,安装方便,能将支腿可靠安装酸洗盘上。
搜索关键词: 用于 半导体 二极管 酸洗
【主权项】:
1.一种用于半导体二极管的酸洗槽,包括酸洗盘(2)和四个以上耐腐蚀的支腿(1),酸洗盘(2)的凹槽底板(2-1)上设具有三排以上横向和纵向设置的工件插装孔(2-2),其特征在于:所述酸洗盘(2)的四周具有安装孔(2-3),支腿(1)上部具有小于支腿(1)尺寸的安装轴(1-1),且支腿(1)的安装轴(1-1)与酸洗盘(2)的安装孔(2-3)紧密配合。
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