[发明专利]电极结构及具有该电极结构的微型设备用封装无效
申请号: | 201010595110.9 | 申请日: | 2010-12-20 |
公开(公告)号: | CN102190277A | 公开(公告)日: | 2011-09-21 |
发明(设计)人: | 宫地孝明;佐野彰彦;井上匡志;奥野敏明;羽田善纪;土肥小也香;芦原义树 | 申请(专利权)人: | 欧姆龙株式会社 |
主分类号: | B81B7/00 | 分类号: | B81B7/00;H01H59/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 刘晓迪 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种电极结构及具有该电极结构的微型设备用封装,能够将Cu电极的厚度减薄,并且即使将Cu电极的厚度减薄也不易在Cu电极上产生裂纹、空隙、剥落等,接合强度高。在设于罩基板(71)的贯通孔(72)上设有Cu贯通配线(75)。在罩基板(71)的表面,在贯通配线(75)的端部设有Cu电极(82)。Cu电极(82)的整个表面被防扩散膜(83)覆盖,该防扩散膜(83)由Sn的扩散系数为3×10-23cm2/sec以下的材料、例如Ti或Ni构成。另外,在防扩散膜(83)之上设置由Au构成的润湿性改善层(84),在其上设置由Au-Sn系焊料构成的接合用焊料层(85)。 | ||
搜索关键词: | 电极 结构 具有 微型 备用 封装 | ||
【主权项】:
一种电极结构,其特征在于,包括:Cu电极,其设置在基板的表面;防扩散膜,其由Sn的扩散系数为3×10‑23cm2/sec以下的材料构成,将所述Cu电极整体覆盖;接合用焊料层,其设置在所述防扩散膜的上方,由Au‑Sn系焊料构成。
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