[发明专利]研磨液组合物有效
申请号: | 201010585992.0 | 申请日: | 2010-12-13 |
公开(公告)号: | CN102108281A | 公开(公告)日: | 2011-06-29 |
发明(设计)人: | 山口哲史 | 申请(专利权)人: | 花王株式会社 |
主分类号: | C09K3/14 | 分类号: | C09K3/14;G11B5/84 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 周欣;陈建全 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及一种研磨液组合物,其是镀覆有Ni-P的铝合金基板用的研磨液组合物,其含有研磨材、酸、氧化剂、杂环芳香族化合物、脂肪族胺化合物或脂环式胺化合物、以及水,所述杂环芳香族化合物的杂环内含有2个以上的氮原子,所述脂肪族胺化合物或脂环式胺化合物的分子内含有2~4个氮原子,所述研磨液组合物的pH为3.0以下。本发明还涉及使用了上述研磨液组合物的磁盘基板的制造方法以及被研磨基板的研磨方法。 | ||
搜索关键词: | 研磨 组合 | ||
【主权项】:
一种镀覆有Ni‑P的铝合金基板用的研磨液组合物,其含有研磨材、酸、氧化剂、杂环芳香族化合物、脂肪族胺化合物或脂环式胺化合物、以及水,所述杂环芳香族化合物的杂环内含有2个以上的氮原子,所述脂肪族胺化合物或脂环式胺化合物的分子内含有2~4个氮原子,所述研磨液组合物的pH为3.0以下。
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