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[发明专利]催化氧化方法和共轭二烯的制造方法-CN201880018569.7有效
发明人：岩贝和幸;日石宏树;龟尾广志;山口哲史 -专利权人：三菱化学株式会社
申请日： 2018-03-16 - 公布日： 2023-09-08 - 主分类号： B01J23/887 文献下载
摘要：本发明的目的在于在使用管式反应器用分子态氧进行气相催化部分氧化时，抑制钼复合氧化物系催化剂的性能劣化。本发明涉及催化氧化方法，该方法包括：使用从反应原料供给口侧依次配置有含有Mo化合物的Mo化合物层及含有Mo复合氧化物催化剂的复合氧化物催化剂层的管式反应器，在440℃且混合气体(空气75体积％及水蒸气25体积％)的流通下，所述Mo化合物的Mo挥发量大于所述Mo复合氧化物催化剂的Mo挥发量。
催化氧化方法共轭制造

[发明专利]催化剂成型体以及甲基丙烯醛和/或甲基丙烯酸的制造方法-CN202080025276.9有效
发明人： 山口哲史;西木健介;渡边拓朗;藤森祐治 -专利权人：三菱化学株式会社
申请日： 2020-03-27 - 公布日： 2023-09-01 - 主分类号： B01J35/02 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供能够在长期稳定地保持原料化合物的高反应率和高选择率的状态下制造甲基丙烯醛和/或甲基丙烯酸的催化剂以及甲基丙烯醛和/或甲基丙烯酸的制造方法。所述催化剂成型体在将催化剂成型体的密度(g/cm3)设为X、将催化剂成型体的填充体积密度(g/cm3)设为Y并将催化剂成型体的特征长度(cm)设为Z时，满足下述式(1)和(2)。0.700(g/cm3)2≤(X×Y)≤1.200(g/cm3)2…式(1)0.050g/cm2≤(X×Z)≤0.130g/cm2…式(2)。
催化剂成型以及甲基丙烯醛甲基丙烯酸制造方法

[发明专利]氧化硅膜用研磨液组合物-CN202080046236.2有效
发明人：菅原将人;山口哲史;工藤功辉 -专利权人：花王株式会社
申请日： 2020-06-19 - 公布日： 2023-08-11 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明在一个方式中提供一种研磨液组合物，其能够确保氧化硅膜的研磨速度，并且提高研磨选择性。本发明在一个方式中涉及一种氧化硅膜用研磨液组合物，其含有氧化铈粒子(成分A)、水溶性高分子(成分B)、阴离子性缩合物(成分C)、及水系介质，成分B是包含下述式(I)所表示的结构单元b1的聚合物。
氧化硅膜用研磨组合

[发明专利]氧化硅膜用研磨液组合物-CN202180079804.3在审
发明人：菅原将人;山口哲史 -专利权人：花王株式会社
申请日： 2021-11-12 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明的一个方式提供一种可提升氧化硅膜研磨中的研磨选择性的氧化硅膜用研磨液组合物。本发明的一个方式涉及一种氧化硅膜用研磨液组合物，其含有氧化铈粒子(成分A)、水溶性阴离子性缩合物(成分B)、及水系介质，且成分B是包含下述式(I)所表示的单体(结构单体b1)及下述式(II)所表示的单体(结构单体b2)的单体的共缩合物，成分B中的结构单体b1相对于结构单体b1与结构单体b2的合计的摩尔比(％)大于30％。
氧化硅膜用研磨组合

[发明专利]氧化硅膜用研磨液组合物-CN202180068443.2在审
发明人：井上将来;山口哲史 -专利权人：花王株式会社
申请日： 2021-09-30 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明在一个方式中，提供一种氧化硅膜用研磨液组合物，其可以兼顾氧化硅膜的研磨速度的提高和凹凸图案处的研磨速度的线宽依赖性的降低。本发明在一个方式中涉及一种氧化硅膜用研磨液组合物，其含有氧化铈粒子(成分A)、下述式(I)或式(II)所表示的化合物(成分B)、至少1个氢原子被羟基取代的含氮杂芳香族化合物(成分C)、及水系介质。
氧化硅膜用研磨组合

[发明专利]催化剂-CN202180014630.2在审
发明人：西木健介;渡边拓朗;山口哲史 -专利权人：三菱化学株式会社
申请日： 2021-02-25 - 公布日： 2022-09-30 - 主分类号： B01J23/888 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种可提高不饱和醛和不饱和羧酸的选择率的催化剂。提供一种催化剂，是至少含有钼、锑、铋和铁的催化剂，催化剂表面的锑原子的数量与钼原子的数量之比大于催化剂全体的锑原子的数量与钼原子的数量之比。
催化剂

[发明专利]氧化硅膜用研磨液组合物-CN201980062898.6在审
发明人：土居阳彦;山口哲史;菅原将人;盛池孝直;井上将来 -专利权人：花王株式会社
申请日： 2019-09-18 - 公布日： 2021-05-04 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明在一个方式中提供一种能够提高氧化硅膜的研磨速度的研磨液组合物。本发明在一个方式中涉及一种氧化硅膜用研磨液组合物，其含有氧化铈粒子(成分A)、添加剂(成分B)、及水系介质，成分B是当对成分B的10ppm水溶液利用循环伏安法(Ag/AgCl电极基准)进行测定时，还原电位为0.45V以上的化合物。
氧化硅膜用研磨组合

[发明专利]铸造装置、检测该铸造装置中的制冷剂的泄漏的方法及泄漏检测装置-CN201680068177.2有效
发明人：芹野大介;河原文雄;松田裕藏;山口哲史;河原博;石川坂幸;高桥琢人;坂口直史;柏场皓之;道本隆裕 -专利权人：丰田自动车株式会社;株式会社MEC国际;株式会社明和先进技术;株式会社尼康
申请日： 2016-11-18 - 公布日： 2021-01-05 - 主分类号： B22D17/22 文献下载
摘要：在对形成于模具内部的冷却通路压送制冷剂的方式的铸造装置中，使得不用对以往的装置施加大的变革，就能够以短的时间可靠地检测模具内的制冷剂的泄漏。铸造装置(1)具备：压送装置(5)，对形成于模具(2)的内部的冷却通路(4)压送制冷剂；和脱模剂涂敷装置(10)，对模具涂敷脱模剂。铸造装置(1)还具备对制冷剂混入荧光剂的单元(荧光剂罐(8))、对混入了荧光剂的制冷剂被压送来的状态下的模具(2)的成形面(3)照射黑光的单元(4)以及拍摄成形面(3)的拍摄装置(14)。所述拍摄装置(14)一体组装于脱模剂涂敷装置(10)。
铸造装置检测中的制冷剂泄漏方法

[发明专利]异丁烯醛和甲基丙烯酸的制造方法-CN201380057892.2有效
发明人： 山口哲史;辰巳奉正;近藤正英;藤森祐治 -专利权人：三菱丽阳株式会社
申请日： 2013-10-29 - 公布日： 2015-07-15 - 主分类号： C07C27/00 文献下载
摘要：本发明提供能够提高异丁烯醛和甲基丙烯酸的收率的异丁烯醛和甲基丙烯酸的制造方法。该异丁烯醛和甲基丙烯酸的制造方法是在含有钼、铋和铁的催化剂的存在下，使用固定床反应器利用分子态氧对选自异丁烯、TBA和MTBE中的至少1种原料进行气相接触氧化而制造异丁烯醛和甲基丙烯酸的方法，将氧化反应的活化能的边界温度设为TA(℃)时，在低于TA(℃)的反应温度下开始反应，边升高反应温度边使原料的转化率控制为一定，在超过TA(℃)的温度下结束反应，将反应温度达到TA为止的升温速度的平均值设为A(℃/小时)，将超过TA的反应温度的升温速度的平均值设为B(℃/小时)时，A与B的比是(A/B)＝0.05～0.18。
异丁烯甲基丙烯酸制造方法

[发明专利]甲基丙烯酸制造用催化剂的制造方法-CN201280017601.2有效
发明人：渡边拓朗;近藤正英;山口哲史;杉山美荣治 -专利权人：三菱丽阳株式会社
申请日： 2012-04-05 - 公布日： 2013-12-18 - 主分类号： B01J27/199 文献下载
摘要：本发明是甲基丙烯酸制造用催化剂的制造方法，所述催化剂至少含有钼和磷作为催化剂成分，在利用分子状氧将2-甲基丙烯醛进行气相接触氧化来制造甲基丙烯酸时使用，该催化剂的制造方法包含：将水性混合液干燥而制造表观密度（X）为1.00～1.80kg/L的干燥物的工序，所述水性混合液含有催化剂成分的原料化合物；和将所述干燥物或含有所述干燥物的混合物成型，制造成型品密度（Y）为1.60～2.40kg/L且所述表观密度（X）与所述成型品密度（Y）的比（X/Y）为0.50～0.80的催化剂成型体的工序。
甲基丙烯酸制造催化剂方法

[发明专利]硬盘用基板用研磨液组合物、基板的研磨方法和制造方法-CN201210334863.3有效
发明人： 山口哲史 -专利权人：花王株式会社
申请日： 2006-08-02 - 公布日： 2013-01-09 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：本发明提供一种硬盘用基板用研磨液组合物，该研磨液组合物含有二氧化硅、酸、表面活性剂和水，其中(a)25℃时酸在水中的溶解度大于等于1g/100g饱和水溶液，(b)表面活性剂为以下述通式(1)所示的磺酸或其盐，且(c)研磨液组合物的pH值为0～4，所述表面活性剂的含量为0.005～2重量％，通式(1)中，R表示碳原子数为6～20的全氟烃基，X表示从芳香烃的芳香环去掉2个氢原子后的残基，n表示0或1。本发明还提供使用上述研磨液组合物来研磨、制造基板的方法以及降低基板的端面下垂的方法。R-(O)n-X-SO3H (1)
硬盘用基板用研磨组合方法制造

[发明专利]磁盘基板用研磨液组合物-CN200980144360.6有效
发明人：大岛良晓;浜口刚吏;佐藤宽司;山口哲史;土居阳彦 -专利权人：花王株式会社
申请日： 2009-11-04 - 公布日： 2011-10-05 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：本发明提供一种能够在不损害生产率的情况下减少研磨后的基板的划痕和表面粗糙度的磁盘基板用研磨液组合物、以及使用了该研磨液组合物的磁盘基板的制造方法。本发明涉及一种磁盘基板用研磨液组合物，其含有ΔCV值为0～10％的胶体二氧化硅和水，所述ΔCV值是CV30与CV90之差的值(ΔCV＝CV30-CV90)，所述CV30是将从采用动态光散射法在30°的检测角测得的散射强度分布得到的标准偏差除以根据所述散射强度分布得到的平均粒径再乘以100后得到的值，所述CV90是将从在90°的检测角测得的散射强度分布得到的标准偏差除以根据所述散射强度分布得到的平均粒径再乘以100后得到的值。
磁盘基板用研磨组合

[发明专利]研磨液组合物-CN201010585992.0有效
发明人： 山口哲史 -专利权人：花王株式会社
申请日： 2010-12-13 - 公布日： 2011-06-29 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：本发明涉及一种研磨液组合物，其是镀覆有Ni-P的铝合金基板用的研磨液组合物，其含有研磨材、酸、氧化剂、杂环芳香族化合物、脂肪族胺化合物或脂环式胺化合物、以及水，所述杂环芳香族化合物的杂环内含有2个以上的氮原子，所述脂肪族胺化合物或脂环式胺化合物的分子内含有2～4个氮原子，所述研磨液组合物的pH为3.0以下。本发明还涉及使用了上述研磨液组合物的磁盘基板的制造方法以及被研磨基板的研磨方法。
研磨组合

[发明专利]图像形成系统、图像形成装置和打印设定方法-CN200710307066.5有效
发明人：花野博之;保井徹;山口哲史 -专利权人：京瓷美达株式会社
申请日： 2007-12-28 - 公布日： 2008-07-16 - 主分类号： G03G21/18 文献下载
摘要：本发明提供一种图像形成系统、图像形成装置和打印设定方法。所述图像形成系统包括图像形成装置、以及安装在所述图像形成装置中的调色剂容器。所述图像形成装置的控制部根据从所述调色剂容器的信息提供部获取的调色剂质量信息，特别指定在所述调色剂容器中装入的调色剂的质量，并进行对应于所述特别指定的调色剂质量的打印设定。由此，可以特别指定装入调色剂容器中的调色剂的质量，并且可以进行对应于该质量的打印设定，所以可以进行对应于调色剂的质量的适当的打印处理。
图像形成系统装置打印设定方法

[发明专利]磁盘基板用研磨液组合物-CN200710101113.0有效
发明人：大岛良晓;山口哲史;土居阳彦 -专利权人：花王株式会社
申请日： 2007-04-26 - 公布日： 2007-10-31 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：本发明的磁盘基板用研磨液组合物含有水、二氧化硅粒子和选自酸、酸的盐和氧化剂中的至少一种，其中，对于上述二氧化硅粒子，用将透射型电子显微镜观察测定得到的所述二氧化硅粒子的最大径作为直径的圆面积除以所述二氧化硅粒子的投影面积再乘以100所得到的值为100－130的范围。
磁盘基板用研磨组合

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