[发明专利]光学记录介质及其制造方法无效
| 申请号： | 201010178025.2 | 申请日： | 2010-05-11 |
| 公开（公告）号： | CN101894569A | 公开（公告）日： | 2010-11-24 |
| 发明（设计）人： | 诹访部正次;中山比吕史;猪狩孝洋;太田辉之 | 申请（专利权）人： | 索尼公司 |
| 主分类号： | G11B7/24 | 分类号： | G11B7/24;G11B7/26 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 彭久云 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种光学记录介质及其制造方法。该光学记录介质包括：基板，具有第一主表面和第二主表面；一个或多个信息信号层，形成在基板的第一主表面上，用于在照射光时进行信息信号的记录或再现；以及阻挡层，形成在基板的第二主表面上，用于抑制气体从基板的第二主表面释放，其中基板的第二主表面由阻挡层暴露的区域的面积不大于688mm2。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 记录 介质 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光学记录介质，包括：基板，具有第一主表面和第二主表面；一个或多个信息信号层，形成在所述基板的所述第一主表面上，用于在被光照射时进行信息信号的记录或再现；以及阻挡层，形成在所述基板的所述第二主表面上，用于抑制气体从所述基板的所述第二主表面释放，其中所述基板的所述第二主表面由所述阻挡层暴露的区域的面积不大于688mm2。
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