[发明专利]光学记录介质及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及光学记录介质及其制造方法。具体地，本发明涉及用于在照射光时进行记录和/或再现信息信号的光学记录介质。

背景技术

到目前为止，可重写光学记录介质已经广泛普及，该可重写光学记录介质用于在信息信号层上照射有激光时进行读取或写入信息信号。通常，对于可重写蓝光光盘等中采用的信息记录层，采用相变记录材料，在该相变记录材料中照射激光时发生晶相和非晶相之间的可逆改变(例如，见JP-A-2006-18926)。在该相变记录材料中，通过急剧降低照射激光时被加热的记录层的温度，可以形成非晶相(记录标记)，并且照射具有相对小的功率的激光相对长的时间非晶相可以返回到晶相。因为这样的原因，其可以进行多次重写。

发明内容

然而，在记录次数增加的情况下，通常存在这样的趋势：热损坏累积在相变记录层中，实施晶相和非晶相之间的可逆改变的功能失去，并且记录标记的再现特性劣化。该劣化的程度取决于制造条件。根据本发明人最近的了解，在刚好在相变记录层的薄膜沉积之前的真空度相对差的情况下，前述劣化变得显著。例如，在双层蓝光光盘中，因为从基板的成型到L1层的薄膜沉积的时间必定变得很长，因此，水分被吸入树脂基板和由UV硬化树脂形成的中间层中。当吸入的水分释放在用于L1层薄膜沉积的真空溅射设备中时，L1层的记录/再现特性，特别是重复重写后的抖动(jitter)，劣化。为了抑制该影响，可以考虑图1的流程图所示的技术，具有形成在其上的L0层和中间层的基板置于80℃的高温很长的时间周期，并且在基板和中间层中的水分被脱气且干燥后，得到的结构被投入用于L1层薄膜沉积的真空溅射设备。然而，该脱气花费4小时或更长的时间，因此，生产率显著下降。

从而，所希望的是提供一种光学记录介质及其制造方法，该光学记录介质能够增强对重复记录的耐久性，而不引起生产率的下降。

根据本发明的实施例涉及一种光学记录介质，包括：

基板，具有第一主表面和第二主表面；

一个或多个信息信号层，形成在基板的第一主表面上，用于在照射光时进行信息信号的记录或再现；以及

阻挡层，形成在基板的第二主表面上，用于抑制气体从基板的第二主表面释放，其中

基板的第二主表面由阻挡层暴露的区域的面积不大于688mm²。

根据本发明的另一个实施例涉及制造光学记录介质的方法，包括如下步骤：

成型具有第一主表面和第二主表面的基板；

在基板的第一主表面上形成第一信息信号层；

在第一信息信号层上形成中间层；

在中间层上形成第二信息信号层；以及

在成型基板的步骤之后并在形成第二信息信号层的步骤之前，在基板的第二主表面上形成阻挡层用于抑制自基板的第二主表面的气体释放，其中

在形成阻挡层的步骤中，基板的第二主表面由阻挡层暴露的区域的面积不大于688mm²。

在根据本发明的实施例中，不仅形成了用于抑制在基板的第二主表面上的气体释放的阻挡层，而且基板的第二主表面由阻挡层暴露的区域的面积设定为不大于688mm²。据此，在信息信号记录层的形成中，可以有效抑制基板内的排气。出于这样的原因，在信息信号层的形成中，可以抑制由诸如水分的杂质气体引起的真空度的劣化。从而，可以获得由重复记录引起的劣化很小的信息信号层。就是说，甚至在不实施高温脱气处理时，也可以获得对重复记录具有优秀耐久性的光学记录介质。

如前所述，根据本发明的实施例，可以获得对重复记录的优秀耐久性，而不引起生产率的下降。

附图说明

图1是用于说明包括脱气处理的制造光学记录介质的方法的流程图；

图2的示意性截面图示出了根据本发明第一实施例的光学记录介质的构造示例；

图3的示意性截面图示出了第一信息信号层的构造示例；

图4的示意性截面图示出了第二信息信号层的构造示例；

图5的平面图示出了形成在基板后表面上的阻挡层的薄膜沉积区域；

图6是用于说明根据本发明第一实施例的制造光学记录介质的方法示例的流程图；

图7的示意图示出了外周掩模31和内周掩模32的布置示例。

图8的示意性截面图示出了根据本发明第二实施例的光学记录介质的构造示例；

图9的图线示出了经历示例1至4和比较例1和2的每个光学记录介质的相变记录层的薄膜沉积的真空室的真空度；

图10的图线示出了示例1至4和比较例1和2的每个光学记录介质在1000次重写后的抖动；