[发明专利]光学记录介质及其制造方法

权利要求书

1.一种光学记录介质，包括：

基板，具有第一主表面和第二主表面；

一个或多个信息信号层，形成在所述基板的所述第一主表面上，用于在被光照射时进行信息信号的记录或再现；以及

阻挡层，形成在所述基板的所述第二主表面上，用于抑制气体从所述基板的所述第二主表面释放，其中

所述基板的所述第二主表面由所述阻挡层暴露的区域的面积不大于688mm²。

2.根据权利要求1所述的光学记录介质，其中

所述暴露的区域的面积不大于398.2mm²。

3.根据权利要求1所述的光学记录介质，其中

所述阻挡层包括电介质材料。

4.根据权利要求1所述的光学记录介质，包括：

第一信息信号层和第二信息信号层，在所述基板的所述第一主表面上依次形成，其中

所述第二信息信号层包含铋、锗和碲。

5.根据权利要求1所述的光学记录介质，包括：

多个信息信号层，在所述基板的所述第一主表面上形成；以及

含有树脂材料的中间层，在所述多个信息信号层之间或中间。

6.根据权利要求1所述的光学记录介质，其中

所述基板包含具有吸水特性的树脂材料。

7.一种制造光学记录介质的方法，包括如下步骤：

成型具有第一主表面和第二主表面的基板；

在所述基板的所述第一主表面上形成第一信息信号层；

在所述第一信息信号层上形成中间层；

在所述中间层上形成第二信息信号层；以及

在成型所述基板的所述步骤之后并在形成所述第二信息信号层的所述步骤之前，在所述基板的所述第二主表面上形成阻挡层，所述阻挡层用于抑制气体从所述基板的所述第二主表面释放，其中

在形成所述阻挡层的所述步骤中，所述基板的所述第二主表面由所述阻挡层暴露的区域的面积被设定为不大于688mm²。

8.根据权利要求7所述的制造光学记录介质的方法，还包括：

在形成所述中间层的所述步骤之后并在形成所述第二信息信号层的所述步骤之前，传送其上形成有所述中间层的所述基板的步骤，其中

传送区间的露点不高于-5℃。

9.根据权利要求8所述的制造光学记录介质的方法，其中

所述传送区间的所述露点不高于-15℃。