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[发明专利]光学记录介质及其制造方法-CN201010178025.2无效
发明人： 诹访部正次;中山比吕史;猪狩孝洋;太田辉之 -专利权人：索尼公司
申请日： 2010-05-11 - 公布日： 2010-11-24 - 主分类号： G11B7/24 文献下载
摘要：本发明提供一种光学记录介质及其制造方法。该光学记录介质包括：基板，具有第一主表面和第二主表面；一个或多个信息信号层，形成在基板的第一主表面上，用于在照射光时进行信息信号的记录或再现；以及阻挡层，形成在基板的第二主表面上，用于抑制气体从基板的第二主表面释放，其中基板的第二主表面由阻挡层暴露的区域的面积不大于688mm2。
光学记录介质及其制造方法

[发明专利]记录介质及其制造方法、记录介质的母盘及其制造方法-CN200810128534.7无效
发明人： 诹访部正次;高瀬史则 -专利权人：索尼株式会社
申请日： 2008-06-19 - 公布日： 2008-12-24 - 主分类号： G11B7/24 文献下载
摘要：本发明公开了一种记录介质及其制造方法、记录介质的母盘及其制造方法。该记录介质具有：具有第一区和第二区的基板，该第一区中形成有第一凹槽，该第二区中形成有第二凹槽；设置在基板上的至少一个信息层；设置在信息层上的保护层。预定的二进制信息预先记录在第一凹槽上，且第一凹槽比第二凹槽浅或窄。
记录介质及其制造方法母盘

[发明专利]光记录介质及其制造方法-CN200780000506.0无效
发明人：和田丰;诹访部正次;矢野亨;滋野浩一 -专利权人：索尼株式会社;株式会社艾迪科
申请日： 2007-01-26 - 公布日： 2008-12-10 - 主分类号： B41M5/26 文献下载
摘要：本发明的目的是确保一次性写入型双层记录介质中的记录再现性质和数据存储可靠性。从记录介质中将经受记录再现光照射的一侧，将化学式3表示的有机染料和化学式4表示的有机染料添加到第二记录层中，从而赋予所述记录介质确保的耐久性。在化学式3中，R1和R2独立地表示具有1～4个碳原子的烷基，Y1和Y2独立地表示有机基团，以及X为ClO₄、BF₄、PF₆、SbF₆；以及在化学式4中，R1和R4独立地表示具有1～4个碳原子的烷基；R2和R3独立地表示具有1～4个碳原子的烷基或一同形成3～6元环；Y1和Y2独立地表示有机基团；以及X为ClO₄、BF₄、PF₆或SbF₆。
记录介质及其制造方法

[发明专利]光记录介质以及使用其的光记录－再现方法-CN200510137334.4无效
发明人：和田丰;诹访部正次;岛田淳子;矢野亨;大矢桂二;滋野浩一 -专利权人：索尼株式会社;旭电化工业株式会社
申请日： 2005-10-27 - 公布日： 2006-09-06 - 主分类号： G11B7/246 文献下载
摘要：本发明提供一种只写一次型的光记录介质，其从低速记录到高速记录都可以获得极好的记录特性。在光记录介质中包括含有有机染料的记录层，该记录层被构造为至少具有由下列化学式1(在该式中，R1表示碳数从1至4的烷基，R2和R3分别表示碳数从1至4的烷基和苯甲基或通过耦合形成3－6元环的基团，Y1和Y2的每个单独表示有机基团，并且X表示ClO₄，FB₄，PF₆和SbF₆)所示的通式表示的有机染料和由下列化学式2(在该式中，R1和R4表示碳数从1至4的烷基，R2和R3分别表示碳数从1至4的烷基和苯甲基或通过耦合形成3－6元环的基团，Y1和Y2的每个单独表示有机基团，并且X表示ClO₄，FB₄，PF₆和SbF₆)所示的通式表示的有机染料。
记录介质以及使用再现方法

[发明专利]光学记录介质-CN200410081854.3无效
发明人：秋森敏博;诹访部正次;坂本进 -专利权人：索尼株式会社
申请日： 2000-08-11 - 公布日： 2005-07-27 - 主分类号： G11B7/24 文献下载
摘要：本发明提供一种光学记录介质，包括含有有机颜料的有机颜料薄膜作为记录层。该有机颜料薄膜包含至少一种显示产生热量反应的化合物作为有机颜料。即使使用低功率的激光束，它也能够实现稳定的记录，同时保持记录层的高反射系数。
光学记录介质

[发明专利]光记录媒质-CN200410095901.X无效
发明人：和田丰;诹访部正次;秋森敏博;岛田淳子;大矢桂二;滋野浩一;矢野亨 -专利权人：索尼株式会社;旭电化工业株式会社
申请日： 2004-11-01 - 公布日： 2005-05-04 - 主分类号： G11B7/24 文献下载
摘要：一种光记录媒质包括一透射基底以及一形成在透射基底上的记录层，该记录层含有至少一种由化学式所示的通式表示的染料材料(化学式1中，R1是有1到4个碳原子的烷基，R2、R3是有1到4个碳原子的烷基、苄基或结合以形成3到6个环的基团，Y1和Y2独立地是有机基团以及X代表ClO₄，BF₄，PF₆，SbF₆)和一种由化学式2代表的通式表示的染料材料(化学式2中，R1和R2是有1到4个碳原子的烷基、苄基或结合以形成3到6个环的基团，Y1和Y2独立地为有机基团以及X代表ClO₄，BF₄，PF₆，SbF₆)。在例如DVD－R和DVD+R的一次写入型光记录媒质中，可以在从低速记录到高速记录中获得满意的记录特性。
记录媒质

[发明专利]光学记录介质-CN200410063845.1无效
发明人：秋森敏博;诹访部正次;坂本进 -专利权人：索尼株式会社
申请日： 2000-08-11 - 公布日： 2004-12-29 - 主分类号： G11B7/24 文献下载
摘要：本发明提供一种光学记录介质，包括含有有机颜料的有机颜料薄膜作为记录层。该有机颜料薄膜包含至少一种显示产生热量反应的化合物作为有机颜料。即使使用低功率的激光束，它也能够实现稳定的记录，同时保持记录层的高反射系数。
光学记录介质

[发明专利]磁光盘-CN97121238.4无效
发明人： 诹访部正次;福岛义仁;武藤良弘 -专利权人：索尼株式会社
申请日： 1997-10-30 - 公布日： 2004-07-07 - 主分类号： G11B11/10 文献下载
摘要：能进行光强调制直接重写且实用特性优良的磁光记录媒体。由叠层下述各层形成了磁光记录膜：由可获得大的Kerr旋转角的磁性材料制成的再现层、由大的磁各向异性材料制成的存储层、具有小的磁各向异性且由富TM稀土—过渡金属无定形合金制成的中间层、居里温度高于存储层与中间层的且由富TM稀土—过渡金属无定形合金制成的记录层、由居里温度低于记录层的磁性材料制的开关层、以及由居里温度高于前述各层的磁性材料制得的初始化层。
光盘

[发明专利]磁光记录介质-CN01103233.2无效
发明人： 诹访部正次;千叶良久 -专利权人：索尼株式会社
申请日： 2001-02-07 - 公布日： 2001-08-29 - 主分类号： G11B11/10 文献下载
摘要：提供一种磁光记录介质,其记录层6记录和存储信息,并包括多个层即第一层6a和第二层6b。第一层6a由饱和磁化与亚晶格磁化方向平行的记录材料制成。第二层6b由在室温下饱和磁化与亚晶格磁化方向反平行的记录材料制成。用于第二层6b的材料在读出温度附近饱和磁化与亚晶格磁化方向平行。
记录介质