[发明专利]一种微纳结构硅材料的制备系统与制备方法

摘要

一种微纳结构硅材料的制备系统，特点是：反射镜、连续可调衰减片、光快门、透镜和三维调整台固定在光学平台上，不锈钢长腔真空室安装在三维调整台上，不锈钢长腔真空室前端有窗片，其内部的后表面粘贴有硅片，外部与真空室充气管道连接，所述管道上设置有两个微调阀，光快门通过导线与脉冲计数器连接。通过连续可调衰减片调节入射激光功率，配合使用脉冲计数器准确控制蚀刻的脉冲数量，并利用微调阀门调节真空室内气体压强，最终实现各种不同形貌的微纳结构硅材料的形成。本发明生产工艺简单，操作便捷，所得微纳结构的硅材料具有跨度超过2500nm的吸收光谱，且反射率低于10％。

主权项

一种微纳结构硅材料的制备系统，包括钛宝石飞秒激光器、反射镜、连续可调衰减片、光快门、透镜、不锈钢长腔真空室和三维调整台，其特征在于：反射镜、连续可调衰减片、光快门、透镜和三维调整台固定在光学平台上，不锈钢真空室安装在三维调整台上，所述的不锈钢真空室前端设置有窗片，不锈钢长腔真空室内部的后表面粘贴有硅片，不锈钢长腔真空室与外部的真空室充气管道连接，所述的真空室充气管道上设置有两个微调阀，光快门通过导线与脉冲计数器连接。