[发明专利]一种等离子加强化学气相沉积设备有效
| 申请号： | 200910209159.3 | 申请日： | 2009-10-28 |
| 公开（公告）号： | CN101693991A | 公开（公告）日： | 2010-04-14 |
| 发明（设计）人： | 代飞顺;郭铁 | 申请（专利权）人： | 新奥光伏能源有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/52 | 分类号： | C23C16/52;C23C16/50 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 郭润湘 |
| 地址： | 065001 河北省*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种等离子加强化学气相沉积PECVD设备，包括：PECVD沉积腔室、热交换器和热交换管路；PECVD沉积腔室包括支撑板和基板；其中热交换器用于对热交换管路中的流体进行加热；热交换管路一端与热交换器连接；另一端分为两个支路分别通向PECVD沉积腔室的支撑板和基板，用于加热支撑板和所述基板稳定地达到正常发生沉积反应的温度状态，在该设备进行“第一片电池片”的生产过程中，可以避免因设备温度未达到正常发生沉积反应的温度状态而产生的“第一电池片效应”，提高了产品的质量和优良品率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 等离子 加强 化学 沉积 设备 | ||
【主权项】：
一种等离子加强化学气相沉积PECVD设备，包括：PECVD沉积腔室(201)、热交换器(202)和热交换管路(203)；所述PECVD沉积腔室(201)包括支撑板(2011)和基板(2012)，所述热交换器(202)用于对热交换管路(203)中的流体进行加热；其特征在于，所述热交换管路(203)一端与所述热交换器(202)连接；另一端分为两个支路(2031；2032)分别通向PECVD沉积腔室(201)的支撑板(2011)和基板(2012)，用于加热所述支撑板(2011)和所述基板(2012)以达到设定的温度。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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