[发明专利]像素结构以及像素结构的制作方法有效
| 申请号： | 200910171231.8 | 申请日： | 2009-08-25 |
| 公开（公告）号： | CN101634789A | 公开（公告）日： | 2010-01-27 |
| 发明（设计）人： | 黄彦衡;陈宗凯;白佳蕙 | 申请（专利权）人： | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1362 | 分类号： | G02F1/1362;G02F1/1368;H01L21/82 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 任默闻 |
| 地址： | 台湾省*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供一种像素结构以及像素结构的制作方法。所述方法包括下列步骤：首先，提供基板，基板上已形成有主动元件以及电容电极线。接着，在基板上形成保护层，覆盖主动元件。接着，在保护层上形成遮光图案层，以定义出单元区域，其中在电容电极线上方未覆盖有遮光图案层。然后，进行喷墨程序，以在遮光图案层所围出的单元区域内形成彩色滤光图案。再来，移除部分的彩色滤光图案，以于主动元件上方的彩色滤光图案中形成第一开口。接着，移除第一开口所暴露出的保护层，以形成接触窗开口，其暴露出主动元件的一部分。然后，在彩色滤光图案上形成像素电极，其填入接触窗开口以与主动元件电连接。 | ||
| 搜索关键词： | 像素 结构 以及 制作方法 | ||
【主权项】：
1.一种像素结构的制作方法，其特征在于，所述方法包括：提供一基板，所述基板上已形成有一主动元件以及一电容电极线；在所述基板上形成一保护层，覆盖所述主动元件；在所述保护层上形成一遮光图案层，以定义出一单元区域，其中在所述遮光图案层内的所述电容电极线上方未覆盖有所述遮光图案层；进行一喷墨程序，以在所述遮光图案层所围出的所述单元区域内形成一彩色滤光图案；移除部分的所述彩色滤光图案，以于所述主动元件上方的所述彩色滤光图案中形成一第一开口；移除所述第一开口所暴露出的所述保护层，以形成一接触窗开口；以及在所述彩色滤光图案上形成一像素电极，其填入所述接触窗开口以与所述主动元件电连接。
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