[发明专利]半导体废气处理的酸碱中和装置有效

专利信息
申请号: 200910143379.0 申请日: 2009-05-22
公开(公告)号: CN101890280A 公开(公告)日: 2010-11-24
发明(设计)人: 冯五良 申请(专利权)人: 东服企业股份有限公司
主分类号: B01D53/78 分类号: B01D53/78;B01D53/38
代理公司: 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 代理人: 孙皓晨
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种半导体废气处理的酸碱中和装置,在一废气洗涤塔的一反应腔室内设一自动吸入器的喷嘴,且自动吸入器连接一清水供应端及一中和液供应端,以供应清水及中和液至自动吸入器混合成一混合液,并排流至喷嘴,以喷洒至反应腔室内,而使混合液与反应腔室内的废气反应,并流入废气洗涤塔的一循环水槽内,且中和液供应端连接循环水槽,于循环水槽内的混合液酸碱值超过一预设范围时,中和液供应端能供应中和液至循环水槽内,以中和循环水槽内的混合液,据以提升洗涤塔及其周边设备的耐久使用寿命,并提升维修上的便利性与安全性。
搜索关键词: 半导体 废气 处理 酸碱 中和 装置
【主权项】:
一种半导体废气处理的酸碱中和装置,其特征在于,包括:一自动吸入器,连接一喷嘴,且该喷嘴延伸至一废气洗涤塔内,该废气洗涤塔内具相通的一上层反应腔室及一下层循环水槽,且该喷嘴座落于该反应腔室内;一清水供应端,连接该自动吸入器,以供应清水至该自动吸入器;一中和液供应端,连接该自动吸入器,以供应中和液至该自动吸入器,该中和液供应端并连接该循环水槽,且该自动吸入器内的该清水与该中和液混合形成一混合液,并排流至该喷嘴;及一氮气供应端,连接该喷嘴,以供应氮气加压该混合液呈雾状喷洒至该反应腔室内,而使该混合液与该反应腔室内的废气反应,并流入该循环水槽内,且该中和液供应端于该循环水槽内的混合液的酸碱值超过一预设范围时,供应中和液至该循环水槽内,以中和该循环水槽内的混合液。
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