[发明专利]半导体废气处理的酸碱中和装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种半导体废气处理的酸碱中和装置，特别是一种针对半导体废气洗涤塔内洗涤用混合液的酸碱值进行控管及调整的装置技术。

背景技术

现有技术中用于半导体光电产业的废气净化设备，主要以湿式废气洗涤塔为主，该湿式废气洗涤塔的种类，概可分为二类，包括填充式洗涤塔与喷雾式洗涤塔。

其中，该喷雾式洗涤塔为一密闭结构体，具有一进气端、一出气端及一排放口，且喷雾式洗涤塔内具有相通的一上层反应腔室及一下层循环水槽，该反应腔室连通该进气端与出气端，该循环水槽连通该排放口，且该反应腔室内设有一个或多个喷嘴，净化废气用的中和液可经由该喷嘴雾化喷出，并充满于该反应腔室内；如此，当废气自进气端进入喷雾式洗涤塔的反应腔室内时，会接触该雾化的中和液，而使废气中的粉尘或有害物质溶入该雾化的中和液中，据以分离出污水、污泥与净化的气体，该净化的气体由出气端向外界排放，该污水或污泥会随着中和液落入下方的循环水槽内，该循环水槽内的中和液接受过滤而可供继续使用，过滤后的中和液经由排放口排出，经回收而送至反应腔室内，以重复过滤废气。

上述中和液的酸碱值，依据该中和液所欲过滤的废气的酸碱值来决定，且该废气的酸碱值依据半导体的制程而定；因此，当所欲过滤的废气呈酸性时，提供碱性中和液，当所欲过滤的废气呈碱性时，提供酸性中和液。

惟，上述喷雾式洗涤塔的循环水槽内的中和液，会受到不同半导体制程的废气的影响，而变成酸性或碱性液体，于该中和液重复使用一段时间后，会导致该中和液的酸碱值过高的问题，造成该中和液腐蚀洗涤塔及其周边设备的零件的现象，缩短洗涤塔及其周边设备的使用寿命，同时也会造成维修上的困难与危险，亟需加以改善。

发明内容

为克服上述现有技术中所揭的问题，本发明的目的旨在提供一种半导体废气处理的酸碱中和装置，尤其是一种能够自动侦测、控管及调整半导体废气洗涤塔内的洗涤用混合液的酸碱值者，以提升该洗涤塔及其周边设备的耐久使用寿命，并提升维修上的便利性与安全性。

为实现上述的目的，本发明半导体废气处理的酸碱中和装置，包括：

一自动吸入器，连接一喷嘴，且该喷嘴延伸至一废气洗涤塔内，该废气洗涤塔内具相通的一上层反应腔室及一下层循环水槽，且该喷嘴座落于该反应腔室内；

一清水供应端，连接该自动吸入器，以供应清水至该自动吸入器；

一中和液供应端，连接该自动吸入器，以供应中和液至该自动吸入器，该中和液供应端并连接该循环水槽，且该自动吸入器内的该清水与该中和液混合形成一混合液，并排流至该喷嘴；及

一氮气供应端，连接该喷嘴，以供应氮气加压该混合液呈雾状喷洒至该反应腔室内，而使该混合液与该反应腔室内的废气反应，并流入该循环水槽内，该中和液供应端间隔定量供应中和液至该循环水槽内，以中和该循环水槽内的混合液，且该中和液供应端于该循环水槽内的混合液的酸碱值超过一预设范围时，持续加量供应中和液至该循环水槽内，以中和该循环水槽内的混合液。

据此，该中和液供应端能够间隔定量供应中和液至该循环水槽内，以平衡混合液的酸碱值，并于混合液的酸碱值过高时，持续供应大量中和液至该循环水槽内与混合液进行酸碱中和，以达到自动侦测、控管及调整半导体废气洗涤塔内混合液的酸碱值的目的，进而提升该洗涤塔及其周边设备的耐久使用寿命，并提升维修上的便利性与安全性。

此外，本发明更加包含：

一酸碱值控制器，该酸碱值的预设范围设定于该控制器内；

一酸碱值侦测器，连接该控制器，且该侦测器具一延伸至该循环水槽内的侦测元件，以侦测该循环水槽内混合液的酸碱值，并提供至控制器，而与该酸碱值的预设范围进行比对；

一第一阀体，串接于该清水供应端与该自动吸入器之间，并接受该控制器控制，而启、闭清水供应至该自动吸入器；

一第二阀体，串接于该中和液供应端与该自动吸入器之间，并接受该控制器控制，而启、闭中和液供应至该自动吸入器；及

一第三阀体，串接于该中和液供应端与该循环水槽之间，并接受该控制器控制，而启、闭中和液供应至该循环水槽。其中，

所述清水供应端与该自动吸入器之间串接一调整阀，以调整供应清水至该自动吸入器的流量。

所述中和液供应端与该自动吸入器之间串接一隔膜阀，以调整供应中和液至该自动吸入器的流量。

然而，为能明确且充分揭露本发明，并予列举出较佳实施例，请配合参照图式而详细说明如后述：

附图说明

图1揭示出本发明较佳实施例的配置示意图；

图2揭示出图1的实施状态图。

附图标记说明：