[发明专利]磁阻元件以及磁性存储器有效

专利信息
申请号: 200810215231.9 申请日: 2008-09-22
公开(公告)号: CN101399312A 公开(公告)日: 2009-04-01
发明(设计)人: 永瀬俊彦;吉川将寿;北川英二;西山胜哉;大坊忠臣;岸达也;与田博明 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: H01L43/08 分类号: H01L43/08;H01L27/22;H01F10/32;G11C11/16;G11C11/15
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 许海兰
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 磁阻元件(10)包含:基底层(23),其由具有NaCl构造、并且取向于(001)面的氮化物构成;第一磁性层(14),其被设置在上述基底层(23)上,且具有垂直于膜面的方向的磁各向异性,并且由具有L10构造、并且取向于(001)面的铁磁性合金构成;非磁性层(16),其被设置在上述第一磁性层(14)上;以及第二磁性层(17),其被设置在上述非磁性层(16)上,并且具有垂直于膜面的方向的磁各向异性。
搜索关键词: 磁阻 元件 以及 磁性 存储器
【主权项】:
1. 一种磁阻元件,具备:第一基底层,其由具有NaCl构造、并且取向于(001)面的氮化物构成;第一磁性层,其被设置在上述第一基底层上,且具有垂直于膜面的方向的磁各向异性,并且由具有L10构造、并且取向于(001)面的铁磁性合金构成;第一非磁性层,其被设置在上述第一磁性层上;以及第二磁性层,其被设置在上述第一非磁性层上,并且具有垂直于膜面的方向的磁各向异性。
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