[发明专利]金属－绝缘体－金属电容器及其制造方法

摘要

本发明披露了一种具有快速频率特性的金属－绝缘体－金属(MIM)电容器及其制造方法。本发明所披露的MIM电容器可以包括第一金属间绝缘膜，在第一金属间绝缘膜上方形成的下部金属层，在下部金属层周围形成的第二金属间绝缘膜和在下部金属层上方形成的第三金属间绝缘膜。可以在第三金属间绝缘膜的一个部分上方顺序地形成第一电容器下部金属层、第一电容器绝缘膜、第一电容器上部金属层和第一覆盖层。可以在包括第一覆盖层的第三金属间绝缘膜上方顺序地形成第一层间绝缘膜、第四金属间绝缘膜和第二层间绝缘膜。第二电容器下部金属层可以延伸穿过第二层间绝缘膜和第一覆盖层，以便第二电容器下部金属层连接至第一电容器上部金属层。可以在第二电容器下部金属层上方形成第一钝化膜。第二电容器上部金属层可以形成在第一钝化膜的一个部分上方并且在布置了第二电容器下部金属层的区域中延伸穿过第一钝化膜，以便第二电容器上部金属层连接至第二电容器下部金属层。可以在包括第二电容器上部金属层的第一钝化膜上方顺序地形成第二钝化膜至第四钝化膜。

主权项

1.一种装置，包括：第一金属间绝缘膜；下部金属层，形成于所述第一金属间绝缘膜上方；第二金属间绝缘膜，形成于所述下部金属层周围；第三金属间绝缘膜，形成于所述下部金属层上方；第一电容器下部金属层、第一电容器绝缘膜、第一电容器上部金属层和第一覆盖层，顺序地形成于所述第三金属间绝缘膜的一个部分上方；第一层间绝缘膜、第四金属间绝缘膜和第二层间绝缘膜，顺序地形成于包括所述第一覆盖层的所述第三金属间绝缘膜上方；第二电容器下部金属层，延伸穿过所述第二层间绝缘膜和所述第一覆盖层以便所述第二电容器下部金属层连接至所述第一电容器上部金属层；第一钝化膜，形成于所述第二电容器下部金属层上方；第二电容器上部金属层，形成于所述第一钝化膜的一个部分上方，并且在布置了所述第二电容器下部金属层的区域中延伸穿过所述第一钝化膜以便所述第二电容器上部金属层连接至所述第二电容器下部金属层；以及第二钝化膜至第四钝化膜，顺序地形成于包括所述第二电容器上部金属层的所述第一钝化膜上方。