[发明专利]X射线检查装置及使用X射线检查装置的X射线检查方法无效

专利信息
申请号: 200810086172.X 申请日: 2008-03-17
公开(公告)号: CN101266218A 公开(公告)日: 2008-09-17
发明(设计)人: 益田真之;松波刚;小泉治幸 申请(专利权)人: 欧姆龙株式会社
主分类号: G01N23/04 分类号: G01N23/04;G01R31/303
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 代理人: 高龙鑫;马少东
地址: 日本京都*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种能够高效地使用靶材面的X射线检查装置。X射线检查装置(100)使传感器基座(22)旋转,从而变更各X射线传感器(23)的位置,并以使X射线入射到位置变更之后的各X射线传感器(23)的方式,重新设定成为X射线焦点位置的X射线放射的起点位置。扫描型X射线源(10)通过使电子束偏转,能够将电子束撞击X射线源的靶材的位置容易地变更到任意的位置。由此,根据向靶材的累计照射时间,能够容易地移动电子束的照射位置。因此,在未中断X射线检查的情况下,能够进行靶材的维护。
搜索关键词: 射线 检查 装置 使用 方法
【主权项】:
1.一种X射线检查方法,使用通过照射X射线来检查对象物的检查部分的X射线检查装置,该X射线检查装置具有检测面、X射线源以及存储装置,其中,该检测面设定在从规定位置中指定的位置,用于检测所入射X射线的强度分布,该X射线源使位于靶材面上的X射线焦点位置移动,由此能够产生上述X射线,该存储装置关于上述靶材面上的位置,存储产生X射线的履历信息而作为上述X射线焦点位置,上述X射线检查方法的特征在于,包括:设定从多个第一规定位置中指定的上述检测面的位置和与上述检查部分对应的上述X射线焦点位置的步骤;基于上述存储装置的上述履历信息,检测在所设定的上述X射线焦点位置所产生的X射线量超出规定量的步骤;根据上述检测结果,将上述检测面的指定位置变更设定为多个第二规定位置中的任一处的步骤,其中,上述多个第二规定位置与上述多个第一规定位置不同;使上述X射线焦点位置移动到根据所变更的上述检测面重新设定的位置,由此产生上述X射线的步骤;在上述检测面上,检测透过了上述检查部分的上述X射线的强度分布的步骤。
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