[发明专利]负性含氟光刻胶组合物及在聚合物光波导器件中的应用

摘要

本发明属于光波导器件领域，具体涉及一种可作为聚合物光波导材料的负性含氟光刻胶组合物及该组合物在制备聚合物光波导器件中的应用。按重量计，负性含氟光刻胶组合物中含有5.0～7.0wt％的光致产酸物、50.0～75.0wt％的如式(1)所示的含氟环氧树脂和20.0～45.0wt％的溶剂，R为氯化(CCl₂)或未氯化(CH₂)的甲基，n值为1～8。由于在在含氟环氧树脂中，部分氢原子被氟原子取代，因此在通讯波段吸收较小，可直接作为聚合物光波导材料用于光波导器件的制作。该光刻胶组合物可以在紫外波长200～400nm范围内曝光并成像制作光波导器件，并可以通过改变光致产酸物的种类来调整曝光波长。

主权项

1、负性含氟光刻胶组合物，其特征在于：按重量计，含有5.0～7.0wt％的光致产酸物、50.0～75.0wt％的如式(1)所示的含氟环氧树脂和20.0～45.0wt％的溶剂；其中，R为CCl₂或CH₂，n为1～8。