[发明专利]负性含氟光刻胶组合物及在聚合物光波导器件中的应用

权利要求书

1.负性含氟光刻胶组合物，其特征在于：按重量计，含有5.0～7.0wt％的光致产酸物、50.0～75.0wt％的如式(1)所示的含氟环氧树脂和20.0～45.0wt％的溶剂；

其中，R为CH₂，n为2～6。

2.如权利要求1所述的负性含氟光刻胶组合物，其特征在于：如式(1)所示的含氟环氧树脂的数均分子量Mn为500～2000。

3.如权利要求2所述的负性含氟光刻胶组合物，其特征在于：如式(1)所示的含氟环氧树脂的数均分子量Mn为1000～2000。

4.如权利要求1所述的负性含氟光刻胶组合物，其特征在于：溶剂为二氯甲烷、氯仿、四氢呋喃、苯、甲苯、丙二醇单烷基醚、丙二醇烷基醚乙酸酯、环戊酮、乙酸丁酯、甲基异丁基酮、正丁酮2-戊酮、4-甲基-2-戊酮、环己酮、2-庚酮、-丁内酯、乙二醇单乙醚乙酸酯、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单甲醚乙酸酯、丁内酯或N，N-二甲基甲酰胺。

5.如权利要求1所述的负性含氟光刻胶组合物，其特征在于：光致产酸物为碘鎓盐或硫鎓盐。

6.如权利要求5所述的负性含氟光刻胶组合物，其特征在于：光致产酸物为三苯基六氟锑酸硫鎓盐、三苯基六氟磷酸硫鎓盐、三苯基六氟砷酸硫鎓盐、三苯基四氟硼酸硫鎓盐、4-甲基苯基二苯基六氟磷酸硫鎓盐、4-(苯硫基)苯基六氟磷酸硫鎓盐、二苯基六氟锑酸碘鎓盐、二苯基六氟磷酸碘鎓盐、二苯基六氟砷酸碘鎓盐、二苯基四氟硼酸碘鎓盐、二甲苯基六氟砷酸碘鎓盐、二叔丁基苯基六氟磷酸碘鎓盐中的一种盐或两种以上的混合盐。

7.权利要求1所述负性含氟光刻胶组合物在制备聚合物光波导器件中的应用。

8.如权利要求7所述的负性含氟光刻胶组合物在制备聚合物光波导器件中的应用，其步骤为：

a)将光刻胶组合物旋涂在衬底上，控制膜厚1～30④m；

b)在70～110℃下前烘30～60min；

c)成像式曝光此光刻胶涂层，曝光时间为10～360S，曝光功率300～1000W，成像式曝光的光引发波长为200～400nm；

d)曝光后，在100～160℃下中烘此光刻胶涂层，时间为30～120min；

e)用显影液将此光刻胶涂层显影，显影时间为10～30S；

f)在90～160℃下进行后烘，时间为30～60min，即得聚合物光波导。

9.如权利要求8所述的负性含氟光刻胶组合物在制备聚合物光波导器件中的应用，其特征在于：显影液为丙二醇单烷基醚、丙二醇烷基醚乙酸酯、环戊酮、乙酸丁酯、甲基异丁基酮、正丁酮2-戊酮、4-甲基-2-戊酮、环己酮、2-庚酮、-丁内酯、乙二醇单乙醚乙酸酯、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单甲醚乙酸酯、丁内酯、N，N-二甲基甲酰胺中的一种有机溶剂或两种以上的混合型有机溶剂。