[实用新型]一种纳米结构出光面半导体发光二极管无效
申请号: | 200720190195.6 | 申请日: | 2007-11-16 |
公开(公告)号: | CN201117681Y | 公开(公告)日: | 2008-09-17 |
发明(设计)人: | 邹德恕;徐丽华;李建军 | 申请(专利权)人: | 北京工业大学 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00 |
代理公司: | 北京思海天达知识产权代理有限公司 | 代理人: | 张慧 |
地址: | 100022*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型涉及半导体光电子器件制造技术领域,尤其涉及一种纳米结构出光面的半导体发光二极管LED。本实用新型是在常规LED的GaP层(2)上表面没有P型电极(11)的表层刻蚀出纳米级的凹凸结构层面;也可以在凹凸结构层面和P型电极(11)的上表面上再覆盖一层铟锡氧化物ITO导电膜(10),再在覆盖有铟锡氧化物ITO导电膜(10)的P型电极上制备同结构P型电极(11)。本实用新型具有减少光反射,提高器件性能,可以用于各种半导体发光二极管等特点。 | ||
搜索关键词: | 一种 纳米 结构 光面 半导体 发光二极管 | ||
【主权项】:
1.一种纳米结构出光面半导体发光二极管,包括有在衬底(7)上依次向上生长的布拉格反射层DBR(6)、N型下限制层(5)、多量子有源区(4)、P型上限制层(3)和磷化镓GaP层(2),GaP层(2)上表面制备的P型电极,衬底(7)的下表面制备有N型电极(8),本实用新型的特征在于,在所述的GaP层的上表面没有P型电极的表层刻蚀出纳米级的凹凸结构层面;也可以在凹凸结构层面和P型电极的上表面上再覆盖一层铟锡氧化物ITO导电膜(10),再在覆盖有铟锡氧化物ITO导电膜(10)的P型电极上制备相同结构P型电极(11)。
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