[发明专利]晶体管结构及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200710149952.X 申请日: 2007-10-08
公开(公告)号: CN101159269A 公开(公告)日: 2008-04-09
发明(设计)人: 杨海宁;陈向东 申请(专利权)人: 国际商业机器公司
主分类号: H01L27/092 分类号: H01L27/092;H01L23/522;H01L21/8238;H01L21/768
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 许向华;张波
地址: 美国纽*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明涉及一种改善的晶体管,其减小了掺杂剂交叉扩散且改善了芯片密度。本发明的第一实施例包括在第一栅极电极区域和第二栅极电极区域的结处被部分去除的栅极电极材料,该第一栅极电极区域包括被掺杂以第一离子的栅极材料以用于第一器件,该第二栅极电极区域包括被掺杂以第二离子的栅极材料以用于第二器件。被分别掺杂的区域通过该栅极导体的顶表面附近的硅化物层连接。
搜索关键词: 晶体管 结构 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种半导体结构,包括:第一栅极电极区域,包括掺杂以第一离子的栅极电极材料以用于第一器件;第二栅极电极区域,包括掺杂以第二离子的栅极电极材料以用于第二器件;部分去除的栅极电极区域,在该第一和第二区域的结处;以及硅化物层,在该部分去除的栅极电极区域之上。
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