[发明专利]组合的步进器和沉积工具有效
申请号: | 200680043778.4 | 申请日: | 2006-11-07 |
公开(公告)号: | CN101313250A | 公开(公告)日: | 2008-11-26 |
发明(设计)人: | M·P·丘德齐克;J·F·小谢泊德 | 申请(专利权)人: | 国际商业机器公司 |
主分类号: | G03F7/16 | 分类号: | G03F7/16 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 | 代理人: | 王茂华 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种步进器在形成集成电路的过程中与沉积材料层的硬件组合,因此执行沉积、构图和清洗,而无需将晶片暴露于工具之间的传送,并且将三个工具的功能组合在一个复合工具中。通过施加穿过步进器的掩膜的UV光来去除图案限定材料,从而消除现有技术方法的烘焙和显影步骤。类似地,UV的整片曝光消除现有技术方法的清洗步骤。 | ||
搜索关键词: | 组合 步进 沉积 工具 | ||
【主权项】:
1.一种用于在工件上沉积已构图结构材料层的设备,包括:沉积模块,具有气体供给装置和用于沉积结构材料的装置,所述气体供给装置用于使至少一种气体在所述工件上流动,所述至少一种气体包括图案材料形成气体,以及曝光模块,包括对准工件的粒子源以及调节所述粒子的分布的构图单元。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于国际商业机器公司,未经国际商业机器公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200680043778.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。