[发明专利]源部件、安装源部件的设备、以及安装和移走源部件的方法有效
申请号: | 200680013543.0 | 申请日: | 2006-04-21 |
公开(公告)号: | CN101163815A | 公开(公告)日: | 2008-04-16 |
发明(设计)人: | P·索伊尼宁 | 申请(专利权)人: | BENEQ有限公司 |
主分类号: | C23C16/00 | 分类号: | C23C16/00;C23C16/44;C23C16/455;C30B25/00;C23C14/00;C23C14/24 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 余全平 |
地址: | 芬兰*** | 国省代码: | 芬兰;FI |
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摘要: | 本发明涉及用于将源部件装入气体沉积反应器内的设备。设备包括至少一个用于源部件的源部件配接头,源部件配接头连接到气体沉积反应器的反应空间,且源部件至少部分的装入源部件配接头或连接源部件配接头的源部件空间内。依照本发明,设备还包括在源部件配接头内用于接收源部件的接收装置,和将源部件装入源部件配接头中以便使用的适当位置的装载装置,和配设在源部件内用于固态或液态源材料(3)的腔室(1),以及用于将腔室(1)完全与外界隔离的隔离装置(7,19)。 | ||
搜索关键词: | 部件 安装 设备 以及 移走源 方法 | ||
【主权项】:
1.用于气体沉积方法的源部件,所述源部件能至少部分地插入一配设在一气体沉积反应器内的源部件配接头内、或一连接至所述源部件配接头的源部件空间内,其特征在于,所述源部件包括一用于固态或液态源材料(3)的腔室(1),所述腔室(1)包括至少一个至少部分敞开的壁、和盖状隔离装置,所述盖状隔离装置能布置在所述腔室(1)的壁上,用于将所述腔室与外界隔离,所述盖状隔离装置和所述腔室(1)布置成彼此相互滑动,以便在所述源部件装入所述源部件配接头内后,开启和/或闭合所述腔室(1)。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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