[发明专利]半导体元件无效

专利信息
申请号: 200610128862.8 申请日: 2006-08-31
公开(公告)号: CN1941415A 公开(公告)日: 2007-04-04
发明(设计)人: 王志豪;蔡庆威;詹前泰;季明华;汪大晖 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L29/51;H01L27/115
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 代理人: 陈晨
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一半导体元件,可如同一个二进制存储器元件或一多态存储器元件运行。也可如同一非易失性元件运行。半导体元件包括:衬底,具有主动表面;至少两个掺杂区,形成于主动表面之中;沟道区,定义于上述至少两个掺杂区之间;以及栅极结构,具有一特定宽度以及一特定长度,其中该栅极结构包括:栅极电介质,高介电常数电介质,以及位于该高介电常数电介质之上的栅极电极。该半导体元件基本上由一金属氧化物半导体场效应晶体管组成,在栅极电介质与栅极电极间更包括一层高介电常数电介质,用以提供一、二、或三个电荷陷阱准位,以产生“0”伏特以外的三个不同电压,以二进制写入晶体管。
搜索关键词: 半导体 元件
【主权项】:
1.一种半导体元件,具有至少两种可控制状态,其中该半导体元件包括:衬底,具有主动表面;至少两个掺杂区,形成于该主动表面之中;沟道区,定义于上述至少两个掺杂区之间;以及栅极结构,具有一特定宽度以及一特定长度,其中该栅极结构包括:栅极电介质,具有一特定厚度,并且位于该衬底的主动表面上,同时也位于该沟道区之上;高介电常数电介质,位于该栅极电介质之上,并且具有一特定厚度以提供至少一个电子或空穴陷阱能阶;以及栅极电极,位于该高介电常数电介质之上。
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