[发明专利]半导体元件无效
申请号: | 200610128862.8 | 申请日: | 2006-08-31 |
公开(公告)号: | CN1941415A | 公开(公告)日: | 2007-04-04 |
发明(设计)人: | 王志豪;蔡庆威;詹前泰;季明华;汪大晖 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;H01L29/51;H01L27/115 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人: | 陈晨 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一半导体元件,可如同一个二进制存储器元件或一多态存储器元件运行。也可如同一非易失性元件运行。半导体元件包括:衬底,具有主动表面;至少两个掺杂区,形成于主动表面之中;沟道区,定义于上述至少两个掺杂区之间;以及栅极结构,具有一特定宽度以及一特定长度,其中该栅极结构包括:栅极电介质,高介电常数电介质,以及位于该高介电常数电介质之上的栅极电极。该半导体元件基本上由一金属氧化物半导体场效应晶体管组成,在栅极电介质与栅极电极间更包括一层高介电常数电介质,用以提供一、二、或三个电荷陷阱准位,以产生“0”伏特以外的三个不同电压,以二进制写入晶体管。 | ||
搜索关键词: | 半导体 元件 | ||
【主权项】:
1.一种半导体元件,具有至少两种可控制状态,其中该半导体元件包括:衬底,具有主动表面;至少两个掺杂区,形成于该主动表面之中;沟道区,定义于上述至少两个掺杂区之间;以及栅极结构,具有一特定宽度以及一特定长度,其中该栅极结构包括:栅极电介质,具有一特定厚度,并且位于该衬底的主动表面上,同时也位于该沟道区之上;高介电常数电介质,位于该栅极电介质之上,并且具有一特定厚度以提供至少一个电子或空穴陷阱能阶;以及栅极电极,位于该高介电常数电介质之上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200610128862.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:压电陶瓷组合物和层叠型压电元件
- 下一篇:慢性鼻窦炎的预防和/或治疗剂
- 同类专利
- 专利分类