[发明专利]硅基液晶显示装置反射镜面的制作方法有效
| 申请号： | 200610119367.0 | 申请日： | 2006-12-08 |
| 公开（公告）号： | CN101196658A | 公开（公告）日： | 2008-06-11 |
| 发明（设计）人： | 蒲贤勇;毛剑宏;陈轶群;傅静 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1362 | 分类号： | G02F1/1362;H01L21/311;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 逯长明 |
| 地址： | 201203*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种硅基液晶显示装置反射镜面的制作方法，包括下列步骤：首先在硅基底上形成介电层；在介电层上形成硬掩膜层；在硬掩膜层上形成绝缘层；蚀刻绝缘层和硬掩膜层至露出介电层，形成绝缘凸块；在介电层和绝缘凸块上形成金属层；平坦化金属层和绝缘凸块，平坦后的绝缘凸块将金属层隔离成反射镜面阵列。经过上述步骤，在金属层上不会产生凹陷现象，进而使后续形成的反射镜面没有凹陷，使反射镜面的质量得到了提高。 | ||
| 搜索关键词： | 液晶 显示装置 反射 制作方法 | ||
【主权项】：
1.一种硅基液晶显示装置反射镜面的制作方法，首先在硅基底上形成介电层，其特征在于，还包括下列步骤：在介电层上形成硬掩膜层；在硬掩膜层上形成绝缘层；蚀刻绝缘层和硬掩膜层至露出介电层，形成绝缘凸块；在介电层和绝缘凸块上形成金属层；平坦化金属层和绝缘凸块，平坦后的绝缘凸块将金属层隔离成反射镜面阵列。
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