[发明专利]研磨液组合物有效
| 申请号： | 200610108436.8 | 申请日： | 2006-08-02 |
| 公开（公告）号： | CN1923943A | 公开（公告）日： | 2007-03-07 |
| 发明（设计）人： | 山口哲史 | 申请（专利权）人： | 花王株式会社 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 陈建全 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种研磨液组合物，以及使用该研磨液组合物的基板的研磨方法。所述研磨液组合物含有二氧化硅、酸、表面活性剂和水，其中(a)25℃时酸在水中的溶解度大于等于1g/100g饱和水溶液，(b)表面活性剂为以通式(1)或(2)所示的磺酸或其盐，且(c)研磨液组合物的pH值为特定范围。该研磨液组合物例如适合用于磁盘、光盘、光磁盘等盘状记录介质用的基板的研磨。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 组合 | ||
【主权项】：
1.一种研磨液组合物，该研磨液组合物含有二氧化硅、酸、表面活性剂和水，其中(a)25℃时酸在水中的溶解度大于等于1g/100g饱和水溶液，(b)表面活性剂为以下述通式(1)所示的磺酸或其盐，且(c)研磨液组合物的pH值为0～4， R-(O)n-X-SO3H (1)式中，R表示一部分或全部氢原子可用氟原子取代的碳原子数为3～20的烃基，X表示从芳香烃的芳香环去掉2个氢原子后的残基，n表示0或1。
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