[发明专利]动态随机存取存储器及沟渠式电容器的制造方法无效
申请号: | 200610094592.3 | 申请日: | 2006-06-21 |
公开(公告)号: | CN101093835A | 公开(公告)日: | 2007-12-26 |
发明(设计)人: | 王建国;黄俊麒;李瑞池;林永昌 | 申请(专利权)人: | 联华电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/108 | 分类号: | H01L27/108;H01L21/8242;H01L21/82;H01L21/02 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 陶凤波;侯宇 |
地址: | 中国台湾新竹*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种动态随机存取存储器,包括基底、隔离结构、二个晶体管、二个沟渠式电容器及二个通过栅极。隔离结构设置于基底中,包括第一隔离结构及第二隔离结构,第二隔离结构设置于第一隔离结构上方的基底中,而第二隔离结构的底面低于基底的表面,且第二隔离结构的边界位于第一隔离结构的边界外。晶体管分别配置于隔离结构两侧的基底上。沟渠式电容器分别配置于各个晶体管与隔离结构之间,且部分第二隔离结构位于各个沟渠式电容器中。通过栅极结构完全配置于第二隔离结构上。 | ||
搜索关键词: | 动态 随机存取存储器 沟渠 电容器 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种动态随机存取存储器,包括:基底;隔离结构,设置于该基底中,包括:第一隔离结构;以及第二隔离结构,设置于该第一隔离结构上方的该基底中,而该第二隔离结构的底面低于该基底的表面,且该第二隔离结构的边界位于该第一隔离结构的边界外;二晶体管,分别配置于该隔离结构两侧的该基底上;二沟渠式电容器,分别配置于各该晶体管与该隔离结构之间,且部分该第二隔离结构位于该些沟渠式电容器中;以及二通过栅极结构,完全配置于该第二隔离结构上。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的