[发明专利]动态随机存取存储器及沟渠式电容器的制造方法无效

专利信息
申请号: 200610094592.3 申请日: 2006-06-21
公开(公告)号: CN101093835A 公开(公告)日: 2007-12-26
发明(设计)人: 王建国;黄俊麒;李瑞池;林永昌 申请(专利权)人: 联华电子股份有限公司
主分类号: H01L27/108 分类号: H01L27/108;H01L21/8242;H01L21/82;H01L21/02
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 陶凤波;侯宇
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种动态随机存取存储器,包括基底、隔离结构、二个晶体管、二个沟渠式电容器及二个通过栅极。隔离结构设置于基底中,包括第一隔离结构及第二隔离结构,第二隔离结构设置于第一隔离结构上方的基底中,而第二隔离结构的底面低于基底的表面,且第二隔离结构的边界位于第一隔离结构的边界外。晶体管分别配置于隔离结构两侧的基底上。沟渠式电容器分别配置于各个晶体管与隔离结构之间,且部分第二隔离结构位于各个沟渠式电容器中。通过栅极结构完全配置于第二隔离结构上。
搜索关键词: 动态 随机存取存储器 沟渠 电容器 制造 方法
【主权项】:
1.一种动态随机存取存储器,包括:基底;隔离结构,设置于该基底中,包括:第一隔离结构;以及第二隔离结构,设置于该第一隔离结构上方的该基底中,而该第二隔离结构的底面低于该基底的表面,且该第二隔离结构的边界位于该第一隔离结构的边界外;二晶体管,分别配置于该隔离结构两侧的该基底上;二沟渠式电容器,分别配置于各该晶体管与该隔离结构之间,且部分该第二隔离结构位于该些沟渠式电容器中;以及二通过栅极结构,完全配置于该第二隔离结构上。
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