[发明专利]半导体器件、RF-IC及其制造方法无效
申请号: | 200610093537.2 | 申请日: | 2006-06-26 |
公开(公告)号: | CN1893067A | 公开(公告)日: | 2007-01-10 |
发明(设计)人: | 藤原刚;今井俊则;才川健志;川崎义博;户谷光广;森俊二;冈部义行 | 申请(专利权)人: | 株式会社瑞萨科技 |
主分类号: | H01L27/00 | 分类号: | H01L27/00;H01L27/02;H01L27/06;H01L27/102;H01L27/108;H01L29/92;H01L21/00;H01L21/02;H01L21/82;H01L21/8222;H01L21/8242 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 | 代理人: | 王茂华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 提供一种能够减小电容器的寄生电容同时减小被电容器占据的空间的技术。通过在由下电极、电容器绝缘膜和中间电极组成的电容器上方形成由中间电极、另一电容器绝缘膜和上电极组成的另一电容器获得层叠结构。由于中间电极具有台阶差,在除电容器形成区域之外的区域中,中间电极和下电极之间的距离以及中间电极和上电极之间的距离中每一个都变得大于在电容器形成区域中的距离。例如,在电容器形成区域中使下电极与电容器绝缘膜直接接触,而在除电容器形成区域以外的区域中使下电极不与电容器绝缘膜直接接触。 | ||
搜索关键词: | 半导体器件 rf ic 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种半导体器件,包括:由金属膜制成的第一电极;形成在所述第一电极上方的第一电容器绝缘膜;由金属膜制成且形成在所述第一电容器绝缘膜上方的第二电极;形成在所述第二电极上方的第二电容器绝缘膜;以及由金属膜制成且形成在所述第二电容器绝缘膜上方的第三电极,其中所述第一电极包括一个具有不与所述第一电容器绝缘膜直接接触的部分的电容器。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的