[发明专利]蚀刻液组合物有效
申请号: | 200610054744.7 | 申请日: | 2006-03-10 |
公开(公告)号: | CN101033549A | 公开(公告)日: | 2007-09-12 |
发明(设计)人: | 黑岩健次;加藤胜 | 申请(专利权)人: | 关东化学株式会社 |
主分类号: | C23F1/16 | 分类号: | C23F1/16;C23F1/20 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 陈建全 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供不含有醋酸、没有刺激气味、性能变化小,可以在半导体装置和平板显示装置等电子装置的制造工序中使用的各种金属薄膜和金属氧化物薄膜的蚀刻液组合物。该蚀刻液组合物含有磷酸、硝酸、甲氧基醋酸和水。 | ||
搜索关键词: | 蚀刻 组合 | ||
【主权项】:
1、一种对金属薄膜进行蚀刻的蚀刻液组合物,其含有磷酸、硝酸、甲氧基醋酸和水。
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