[发明专利]具有可调能带带隙的半导体装置无效

专利信息
申请号: 200580037002.7 申请日: 2005-10-20
公开(公告)号: CN101048881A 公开(公告)日: 2007-10-03
发明(设计)人: A·R·巴尔克南德;E·P·A·M·巴克斯;L·F·费纳 申请(专利权)人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;G11C13/02;H01L29/12;H01S5/34;H01S5/06
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 王庆海;陈景峻
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种能带带隙能够被电性改变的半导体装置。本发明的思想是提供一种装置,该装置基于嵌入在材料(307)中的纳米线(306),当适当地处理例如锆钛酸铅PZT、氮化铝AlN或者氧化锌ZnO的这种压电材料时,材料(307)显示出变形。借助将电压应用于该材料,可以通过施加对压电材料(307、312)的部分变形而可逆地应变纳米线(306)。利用所得到的带隙变化调整从例如LED或者激光器发射的光的颜色。这是带隙与发出光的频率成比例的事实的结果。在其它领域的应用中,能够控制半导体结中的接触电阻,并且该特征在存储器和开关中有非常有利的。
搜索关键词: 具有 可调 能带 半导体 装置
【主权项】:
1、一种能带带隙能够被电性改变的半导体装置,该装置包括:至少一个半导体纳米线(306);压电材料(307);布置在压电材料处的电极(313),经由该电极施加电压以引起压电材料变形;其中所述至少一个半导体纳米线被布置成与所述压电材料机械接触,并且所述变形对所述至少一个半导体线施加应力,这引起半导体纳米线的能带带隙改变。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于皇家飞利浦电子股份有限公司,未经皇家飞利浦电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200580037002.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top