[发明专利]半导体发光元件及其制造方法和安装方法、发光器件有效

专利信息
申请号: 200580032696.5 申请日: 2005-09-22
公开(公告)号: CN101027795A 公开(公告)日: 2007-08-29
发明(设计)人: 东和司;石谷伸治 申请(专利权)人: 松下电器产业株式会社
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 王玮
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的LED芯片(1)具有如下结构:n型半导体层(12)和p型半导体层(13)相继形成在元件衬底(11)的下表面上,p型半导体层(13)形成在除用于n电极的区域(12a)之外的区域上。第一n电极(14)形成在用于n电极的区域(12a)上,第一p电极(15)形成在p型半导体层(13)上。具有开口(16a)和(16b)的第一绝缘层(16)形成在第一n电极(14)和第一p电极(15)上,具有实质上相同尺寸的第二n电极(17)和第二p电极(18)形成在第一绝缘层(16)上。采用这种配置,可以使n型半导体层(12)上的电极大,从而可以通过使用焊料(31)以低成本执行将LED芯片(1)安装到电路板(40)上的安装工艺。
搜索关键词: 半导体 发光 元件 及其 制造 方法 安装 器件
【主权项】:
1.一种半导体发光元件,包括:透光元件衬底;n型半导体层,形成在所述元件衬底上以覆盖所述元件衬底;p型半导体层,形成以覆盖除所述n型半导体层上用于n电极的区域之外的所述n型半导体层上的区域,并用于与n型半导体层协同发光;第一n电极,是形成在所述n型半导体层的用于n电极的区域上的薄膜;第一p电极,是形成在所述p型半导体层上的薄膜;第一绝缘层,形成以将所述第一n电极与所述第一p电极彼此绝缘;第二n电极,在所述第一n电极和所述第一绝缘层上形成为具有比所述n型半导体层与所述第一n电极之间的接合面大的面积的薄膜,以将所述第二n电极与所述第一n电极电连接,所述第一绝缘层将所述第二n电极与所述第一p电极绝缘;以及第二p电极,形成为具有比所述n型半导体层与所述p型半导体层之间的接合面小的面积的薄膜,所述第二p电极与所述第一p电极电连接。
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