[发明专利]制造第III族元素氮化物晶体的方法、其中所用的制造装置以及由此制造的半导体元件无效

专利信息
申请号: 200580010595.8 申请日: 2005-03-31
公开(公告)号: CN1938458A 公开(公告)日: 2007-03-28
发明(设计)人: 森勇介;峯本尚;北冈康夫;木户口勲;川村史朗;佐佐木孝友;高桥康仁 申请(专利权)人: 松下电器产业株式会社;森勇介
主分类号: C30B29/38 分类号: C30B29/38;C30B9/08
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 程大军
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供了一种制造第III族元素氮化物晶体的方法,使用该方法可以提高生长速率,并且在短时间内生长出较大的高质量晶体,还提供其中所用的制造装置以及使用该方法和该装置得到的半导体元件。该方法是一种制造第III族元素氮化物晶体的方法,其包括使含有第III族元素、氮及碱金属和碱土金属中的至少一种的材料溶液在含氮气体的气氛中加压加热,以使材料溶液中的氮和第III族元素相互反应生长晶体的晶体生长过程。该方法还包括在晶体生长过程之前制造材料溶液的材料制造过程,制造方式是在含氮气体的气氛中将环境温度和环境压力的至少之一设置到高于晶体生长过程的条件,从而使氮可以溶解在含有第III族元素及碱金属和碱土金属中的至少一种的熔体中。本发明的方法可使用例如图7所示的制造装置进行。
搜索关键词: 制造 iii 元素 氮化物 晶体 方法 其中 所用 装置 以及 由此 半导体 元件
【主权项】:
1.一种制造第III族元素氮化物晶体的方法,其包括:晶体生长过程:使含有第III族元素、氮及碱金属和碱土金属中的至少一种的材料溶液在含氮气体的气氛中加压加热,以使材料溶液中的氮和第III族元素相互反应来生长晶体,其中该方法还包括在晶体生长过程之前制造材料溶液的材料制造过程,制造方式是在含氮气体的气氛中,将环境温度和环境压力至少之一设置到高于晶体生长过程的条件,以使氮溶解在含有第III族元素及碱金属和碱土金属中的至少一种的熔体中。
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