[发明专利]一种半导体晶片加工的传输平台有效
申请号: | 200510130649.6 | 申请日: | 2005-12-16 |
公开(公告)号: | CN1845306A | 公开(公告)日: | 2006-10-11 |
发明(设计)人: | 张之山 | 申请(专利权)人: | 北京圆合电子技术有限责任公司 |
主分类号: | H01L21/677 | 分类号: | H01L21/677 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 | 代理人: | 司君智 |
地址: | 100016*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一种半导体晶片加工的传输平台,包括片舱开启装载端口、若干反应室和真空传输腔室,其特征在于,所述真空传输腔室为轴对称多边形结构,在真空传输腔室内轴向布置若干真空机械手,轴对称布置若干晶片暂存区,两个真空锁置于多边形的两个相邻的边,若干反应室置于多边形的其他边,离真空锁近的机械手负责晶片在真空锁、离自己最近的反应室及离自己最近的晶片暂存区相互之间的传送,离真空锁远的机械手负责晶片在离自己近的晶片暂存区与离自己近的若干反应室相互之间的传送。本发明增加了可携带反应室的数量,具有多个真空机械手和多个晶片暂存区域,增加了同时进行工艺操作的晶片数量,更具有广泛的工艺应用范围和良好的兼容性。 | ||
搜索关键词: | 一种 半导体 晶片 加工 传输 平台 | ||
【主权项】:
1、一种半导体晶片加工的传输平台,包括片舱开启装载端口(10,11)、若干反应室(1~6)和真空传输腔室(12),其特征在于,所述真空传输腔室(12)为轴对称多边形结构,在真空传输腔室(12)内轴向布置若干真空机械手(R1,R2),轴对称布置若干晶片暂存区(P1,P2),若干反应室(1~6)和两个真空锁置(7,8)分布于多边形的周边,两个真空锁置(7,8)所在多边形的两个边相邻。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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