[发明专利]金属有机物化学气相淀积设备反应室中的公转自转机构无效

专利信息
申请号: 200510072924.3 申请日: 2005-05-20
公开(公告)号: CN1865495A 公开(公告)日: 2006-11-22
发明(设计)人: 刘祥林;焦春美 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: C23C16/458 分类号: C23C16/458;C23C16/44
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 周国城
地址: 100083北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明金属有机物化学气相淀积设备反应室中的公转自转机构,涉及半导体设备制造领域,特别是涉及金属有机物化学气相淀积(MOCVD)设备中的衬底基座旋转机构。该金属有机物化学气相淀积设备中的公转自转机构:(1)该反应室中的大石墨舟围绕一公共固定点公转,小石墨舟围绕各自中心点自转;(2)用电机带动衬底基座(大石墨舟)公转;(3)用电机带动衬底基座(小石墨舟)自转;(4)用耐热材料将高温区(衬底机座)和低温区(旋转动力机构)隔开,同时传递旋转动力。
搜索关键词: 金属 有机物 化学 气相淀积 设备 反应 中的 公转 自转 机构
【主权项】:
1、一种金属有机物化学气相淀积设备反应室中的公转自转机构,由公转皮带轮、主轴、大石墨舟、小石墨舟、自转行星轮、太阳轮、反应室外壁、支撑架、轴承和石英支架组成,其特征在于:(1)该反应室中的大石墨舟围绕一公共固定点公转,小石墨舟围绕各自中心点自转;(2)公转和自转都由电机通过机械传动机构带动旋转;其中:反应室外壁内部底面上固设有支撑架,支撑架为盒状;反应室外壁和支撑架共一中心轴线,反应室外壁底面和支撑架顶面上,在中心轴线位置各有一孔;在反应室外壁和支撑架的中心轴线上竖直设一主轴,主轴为中空管状,主轴上部伸出支撑架的顶面中心孔,其侧面和支撑架顶面动接触,主轴下端与反应室外壁内底面动接触,主轴由反应室外壁和支撑架定位;主轴底端外周圆固设有齿轮,主轴上端外周圆固设一圆盘状平台,圆盘状平台上固设有石英支架,石英支架为盒状,石英支架与反应室外壁、支撑架共一中心轴线,在石英支架顶面的中心轴线上有一中心孔,一石英管置于孔中,其下部向下延伸,通过主轴内腔由反应室外壁底面上的孔中伸出;石英支架顶面固设有大石墨舟,大石墨舟顶面的内圆周面上均布有至少三个小石墨舟,小石墨舟与大石墨舟动接触;各小石墨舟底面中心向下竖直固定设置转轴,转轴穿过石英支架,其下端与水平设置的行星轮的中心固接,水平设置的行星轮位于圆盘状平台下方;一太阳轮设于支撑架与圆盘状平台之间,太阳轮的中心孔套于主轴的外周圆,与主轴动连接;太阳轮为外齿结构,其上部与行星轮相啮合,下端面固接于支撑架的顶面;主轴一侧,于支撑架上竖直设有公转转轴,转轴下端伸出反应室外壁底面,固接于公转皮带轮中心,上端伸出支撑架的顶面,由反应室外壁和支撑架定位,在公转转轴与反应室外壁底面相接部设有磁流体轴承,以确保密封性;在反应室外壁底面内侧处,公转转轴上固设有齿轮,该齿轮与主轴底端齿轮相啮合,公转皮带轮通过皮带与电机相连接。
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