[发明专利]金属有机物化学气相淀积设备反应室中的公转自转机构无效
申请号: | 200510072924.3 | 申请日: | 2005-05-20 |
公开(公告)号: | CN1865495A | 公开(公告)日: | 2006-11-22 |
发明(设计)人: | 刘祥林;焦春美 | 申请(专利权)人: | 中国科学院半导体研究所 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;C23C16/44 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 周国城 |
地址: | 100083北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明金属有机物化学气相淀积设备反应室中的公转自转机构,涉及半导体设备制造领域,特别是涉及金属有机物化学气相淀积(MOCVD)设备中的衬底基座旋转机构。该金属有机物化学气相淀积设备中的公转自转机构:(1)该反应室中的大石墨舟围绕一公共固定点公转,小石墨舟围绕各自中心点自转;(2)用电机带动衬底基座(大石墨舟)公转;(3)用电机带动衬底基座(小石墨舟)自转;(4)用耐热材料将高温区(衬底机座)和低温区(旋转动力机构)隔开,同时传递旋转动力。 | ||
搜索关键词: | 金属 有机物 化学 气相淀积 设备 反应 中的 公转 自转 机构 | ||
【主权项】:
1、一种金属有机物化学气相淀积设备反应室中的公转自转机构,由公转皮带轮、主轴、大石墨舟、小石墨舟、自转行星轮、太阳轮、反应室外壁、支撑架、轴承和石英支架组成,其特征在于:(1)该反应室中的大石墨舟围绕一公共固定点公转,小石墨舟围绕各自中心点自转;(2)公转和自转都由电机通过机械传动机构带动旋转;其中:反应室外壁内部底面上固设有支撑架,支撑架为盒状;反应室外壁和支撑架共一中心轴线,反应室外壁底面和支撑架顶面上,在中心轴线位置各有一孔;在反应室外壁和支撑架的中心轴线上竖直设一主轴,主轴为中空管状,主轴上部伸出支撑架的顶面中心孔,其侧面和支撑架顶面动接触,主轴下端与反应室外壁内底面动接触,主轴由反应室外壁和支撑架定位;主轴底端外周圆固设有齿轮,主轴上端外周圆固设一圆盘状平台,圆盘状平台上固设有石英支架,石英支架为盒状,石英支架与反应室外壁、支撑架共一中心轴线,在石英支架顶面的中心轴线上有一中心孔,一石英管置于孔中,其下部向下延伸,通过主轴内腔由反应室外壁底面上的孔中伸出;石英支架顶面固设有大石墨舟,大石墨舟顶面的内圆周面上均布有至少三个小石墨舟,小石墨舟与大石墨舟动接触;各小石墨舟底面中心向下竖直固定设置转轴,转轴穿过石英支架,其下端与水平设置的行星轮的中心固接,水平设置的行星轮位于圆盘状平台下方;一太阳轮设于支撑架与圆盘状平台之间,太阳轮的中心孔套于主轴的外周圆,与主轴动连接;太阳轮为外齿结构,其上部与行星轮相啮合,下端面固接于支撑架的顶面;主轴一侧,于支撑架上竖直设有公转转轴,转轴下端伸出反应室外壁底面,固接于公转皮带轮中心,上端伸出支撑架的顶面,由反应室外壁和支撑架定位,在公转转轴与反应室外壁底面相接部设有磁流体轴承,以确保密封性;在反应室外壁底面内侧处,公转转轴上固设有齿轮,该齿轮与主轴底端齿轮相啮合,公转皮带轮通过皮带与电机相连接。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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