[发明专利]P－沟道功率MIS场效应晶体管和开关电路有效
| 申请号： | 200480014594.6 | 申请日： | 2004-05-24 |
| 公开（公告）号： | CN1795547A | 公开（公告）日： | 2006-06-28 |
| 发明（设计）人： | 大见忠弘;寺本章伸;赤堀浩史;二井启一;渡边高训 | 申请（专利权）人： | 大见忠弘;矢崎总业株式会社 |
| 主分类号： | H01L21/336 | 分类号： | H01L21/336;H01L29/78;H01L21/316;H01L21/304 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 陈平 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 在形成于基本上含有(110)平面的硅表面上的P－沟道功率MIS场效应晶体管中，使用栅极绝缘膜，该栅极绝缘膜提供10V或以上的栅极－至－源极击穿电压，并且平面化硅表面，或者含有Kr、Ar或Xe。 | ||
| 搜索关键词： | 沟道 功率 mis 场效应 晶体管 开关电路 | ||
【主权项】：
1、一种P-沟道功率MIS场效应晶体管，其包含具有硅区域的衬底，硅区域的表面基本上是(110)平面，形成在该表面上的栅极绝缘膜，以及形成在所述栅极绝缘膜上的栅极电极，并且其中所述硅区域至少被用作沟道，该P-沟道功率MIS场效应晶体管的特征在于：所述栅极绝缘膜的至少和所述硅区域表面接触的接触部分含有氩、氪或氙，并且P-沟道MIS场效应晶体管的源极-至-栅极击穿电压不小于10V。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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